PRODUTO EM CAMADAS PARA A FORMAÇÃO DE PADRÃO FINO, MÉTODOS DE FABRICAÇÃO DO MESMO, DE FABRICAÇÃO DE UMA ESTRUTURA DE PADRÃO FINO, DISPOSITIVO SEMICONDUTOR EMISSOR DE LUZ, E PADRÃO FINO

IPC Classification

Priority claims

Abstract

PRODUTO EM CAMADAS PARA A FORMAÃÃO DE PADRÃO FINO, MÃTODOS DE FABRICAÃÃO DO MESMO, DE FABRICAÃÃO DE UMA ESTRUTURA DE PADRÃO FINO, DISPOSITIVO SEMICONDUTOR EMISSOR DE LUZ, E PADRÃO FINODescreve?se um produto em camadas para a formação de padrão fino e um método de fabricação do produto em camadas para a formação de padrão fino, capaz de formar facilmente um padrão fino tendo uma película fina ou nenhuma película residual a fim de formar um padrão fino tendo uma razão de aspecto elevada sobre um objeto de processamento. O produto em camadas para a formação de padrão fino (1) da presente invenção usado para formar um padrão fino (220) em um objeto de processamento (200) usando uma primeira camada de máscara (103) inclui: um molde (101) tendo uma estrutura côncava-convexa (101a) sobre uma superfície; e uma segunda camada de máscara (102) provida sobre a estrutura côncava-convexa (101a), em que na segunda camada de máscara (102), a distância (lcc) e uma altura (h) da estrutura côncava-convexa (101a) satisfazem à Fórmula (1) 0 < lcc < 1,0h, e uma distância (lcv) e uma altura (h) satisfazem à Fórmula (2) 0 (Menor igual) Icv (Menor igual) 0,05h.