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SUBSTRATO PARA ÓPTICA, DISPOSITIVO DE EMISSÃO DE LUZ SEMICONDUTOR, MOLDE PARA IMPRESSÃO PARA FABRICAR O SUBSTRATO PARA ÓPTICA, E, APARELHO DE EXPOSIÇÃO

ArquivadaInvention PatentPCT · JP2012071998

Application data

Number

112014004710

Type

Invention Patent

Filing

08/30/2012

Publication

04/09/2019

PCT

JP2012071998

Progress at the INPI

  1. Filing08/30/12
  2. Publication04/09/19
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 09/21/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

A. C. (pessoa física)

JP

Inventors

K. J. (pessoa física)

JP

M. M. (pessoa física)

JP

Y. F. (pessoa física)

JP

Technical data

Priority claims

JP

2011-188803 · 08/31/2011

JP

2011-188804 · 08/31/2011

JP

2011-229121 · 10/18/2011

JP

2012-027548 · 02/10/2012

JP

2012-027549 · 02/10/2012

JP

2012-027550 · 02/10/2012

JP

2012-089230 · 04/10/2012

Abstract

SUBSTRATO PARA ÓPTICA, DISPOSITIVO DE EMISSÃO DE LUZ SEMICONDUTOR, MOLDE PARA IMPRESSÃO PARA FABRICAR SUBSTRATO PARA ÓPTICA, E, APARELHO DE EXPOSIÇÃO. Provê-se um substrato para óptica dotado com um produto de estrutura fina que melhora a eficiência luminosa de um LED enquanto melhorando a eficiência quântica interna IQE diminuindo o número de defeitos de deslocamento em uma camada de semicondutor, um substrato para óptica (1) é provido com uma camada de estrutura fina (12) incluindo pontos consistindo de uma pluralidade de porções convexas (13) estendendo-se na direção a partir da superfície principal de um substrato (11) para o exterior da superfície, em que a camada de estrutura fina (12) tem uma pluralidade de linhas de pontos (13-1 a 13-N) em que uma pluralidade de pontos está disposta com um passo Py na primeira direção na superfície principal do substrato (11), enquanto tendo a pluralidade de linhas de pontos em que uma pluralidade de pontos está disposta com um passo Px na segunda direção ortogonal à primeira direção na superfície principal do substrato (11), um dentre o passo Py e o passo Px é um intervalo constante de ordem do nano, enquanto o outro é um intervalo inconstante de ordem do nano, ou ambos são intervalos inconstantes de ordem do nano .

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Adição na publicação

#15.35

09/21/2021

RPI 2646

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

06/23/2020

RPI 2581

Exigência preliminar

#6.21

12/24/2019

RPI 2555

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

04/30/2019

RPI 2521

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

04/09/2019

RPI 2518

Publicação anulada

#1.3.2

Anulação da publicação código 1.3 na RPI nº 2423 de 13/06/2017, por ter sido indevida.

06/20/2017

RPI 2424

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

06/13/2017

RPI 2423

Alteração de dados cadastrais

#1.1

10/21/2014

RPI 2285

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