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Official data from INPI

SUBSTRATO ÓPTICO, DISPOSITIVO EMISSOR DE LUZ SEMICONDUTOR, E, MÉTODO DE FABRICAÇÃO DO MESMO

Em AnáliseInvention PatentPCT · JP2013075943

Application data

Number

112015008057

Type

Invention Patent

Filing

09/25/2013

Publication

07/04/2017

PCT

JP2013075943

Progress at the INPI

  1. Filing09/25/13
  2. Publication07/04/17
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The applicant withdrew the application. The case ended without a patent.

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Latest action published by the INPI: 09/05/2017. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

A. C. (pessoa física)

JP

Inventors

I. N. (pessoa física)

JP

K. J. (pessoa física)

JP

M. H. (pessoa física)

JP

Y. F. (pessoa física)

JP

Technical data

IPC Classification

Priority claims

JP

2012-227299 · 10/12/2012

JP

2012-230000 · 10/17/2012

JP

2012-231861 · 10/19/2012

JP

2012-280240 · 12/21/2012

JP

2013-022576 · 02/07/2013

JP

2013-111091 · 05/27/2013

Abstract

SUBSTRATO ÃPTICO, DISPOSITIVO EMISSOR DE LUZ SEMICONDUTOR, E, MÃTODO DE FABRICAÃÃO DO MESMO. Um substrato óptico PP (10) é provido com um corpo de substrato, e uma estrutura côncava-convexa (20) composta de uma pluralidade de porções convexas (20a) providas sobre a superfície principal do corpo do substrato, em que pelo menos um padrão (X) observável com um microscópio óptico é desenhado sobre a superfície principal, um intervalo do padrão (X) é maior do que um passo da estrutura côncava-convexa (20), e em uma imagem de microscópio óptico do padrão (X), uma primeira região (Xa) é capaz de ser distinguida de uma segunda região (Xb) por uma diferença em claro e escuro, uma pluralidade de primeiras regiões (Xa) é disposta afastada uma da outra em intervalos, e a segunda região (Xb) conecta entre as primeiras regiões (Xa), de modo a realizar de modo concomitante aumentos na eficiência quântica interna IQE e aperfeiçoamentos em eficiência de extração de luz LEE de um dispositivo emissor de luz semicondutor que tenham sido compensados mutuamente.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

10.1

Homologada a desistência do pedido solicitada através da petição N°870170010517 de 16/02/2017.

09/05/2017

RPI 2435

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.

07/04/2017

RPI 2426

Alteração de dados cadastrais

#1.1

03/01/2017

RPI 2408

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