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Official data from INPI

MÉTODO PARA PRODUZIR UM RECIPIENTE PLÁSTICO REVESTIDO POR FILME FINO DE BARREIRA AOS GASES

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · JP2009061582

Application data

Number

PI0924233

Type

Invention Patent

Filing

06/25/2009

Publication

01/26/2016

PCT

JP2009061582

Progress at the INPI

  1. Filing06/25/09
  2. Publication01/26/16
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 08/07/2018. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

K. K. (pessoa física)

JP

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Inventors

M. S. (pessoa física)

JP

M. N. (pessoa física)

JP

Technical data

Priority claims

JP

2009-097494 · 04/13/2009

Abstract

MÃTODO PARA PRODUZIR UM RECIPIENTE PLÃSTICO REVESTIDO POR FILME FINO DE BARREIRA AOS GASESRevelado aqui está um método para produzir um recipiente plástico revestido com um filme fino que é excelente em propriedades de barreira aos gases, coloração de filme e adesividade do filme sem usar um eletrodo externo tendo uma forma especial quando da supressão da deposição de matérias estranhas tais como pós de carbono. O método para produzir um recipiente plástico revestido por filme fino de barreira aos gases de acordo com a presente invenção inclui as etapas de: alojar um recipiente plástico em um eletrodo externo servindo como uma unidade formadora de filme; colocar um eletrodo interno servindo como um tubo de fornecimento de gás de matéria-prima em um interior do recipiente plástico; exaurindo gás de um interior do eletrodo externo ao ativar uma bomba de vácuo; soprar um gás de matéria-prima para o interior do recipiente plástico sob uma pressão reduzida; e formar um filme fino de barreira aos gases sobre uma superfície de parede interna do recipiente plástico ao gerar plasma a partir do gás de matéria-prima, estabelecendo uma frequência de fonte de energia de uma fonte de energia para geração de plasma para fornecer energia ao eletrodo externo para ser 5,5 a 6,5 MHz.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2467 de 17-04-2018 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

08/07/2018

RPI 2483

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 9ª anuidade.

04/17/2018

RPI 2467

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

01/26/2016

RPI 2351

Alteração de dados cadastrais

#1.1

11/21/2012

RPI 2185

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