Dados do pedido
Número
PI9709427Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US1997000928 Patente concedida em 28/07/2009 e depois extinta em 24/07/2018. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 24/07/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Avon Products, Inc.
US
Inventores
D. P. (pessoa física)
US
N. S. (pessoa física)
US
R. K. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
658089 · 04/06/1996
Resumo técnico
Patente de Invenção: "OXA ÁCIDOS E COMPOSTOS RELACIONADOS PARA TRATAMENTO DE CONDIÇÕES DA PELE" . A presente invenção é dirigida ao uso de composto da fórmula (I), representados abaixo, como princípios ativos para o tratamento de condições da pele; a composições contendo esses compostos; e a métodos de tratamento de condições da pele usando-se esses compostos e composições em que R~ 4~ é (CR~ 5~R~ 6~-CR~ 7~R~ 8~-X~ 1~)~ n~-CR~9~R~ 10~R~ 11~; n é um número inteiro de 1 a 18; R~ 1~, R~ 2~, R~ 3~, R~ 5~, R~ 6~,R~ 7~, R~ 8~, R~ 9~ R~ 10~ e R~ 11~ são, inpedependentemente, hidrogênio ou substituintes de não-hidrogênio; e X, X~ 1~, Y e Z são, independentemente, O, NH ou S.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2465 de 03-04-2018 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
24/07/2018
RPI 2481
#21.6
Referente à 21ª anuidade.
03/04/2018
RPI 2465
#24.4
06/12/2011
RPI 2135
Referente a 14ª anuidade(s).
16/08/2011
RPI 2119
#16.1
28/07/2009
RPI 2012
#9.1
10/02/2009
RPI 1988
#6.1
23/09/2008
RPI 1968
#7.1
18/12/2007
RPI 1928
A requerente deverá complementar o valor da taxa de exame referente às reivindicações excedentes, para que se dê prosseguimento ao exame técnico.
14/08/2007
RPI 1910
24/10/2006
RPI 1868
#8.6
Referente a 9ª anuidade.
13/06/2006
RPI 1849
#1.3
11/01/2000
RPI 1514
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