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Dado oficial do INPI

COMPOSIÇÕES A BASE DE GEL DE SILICONE PARA CICATRIZAÇÃO DE FERIMENTOS E REDUÇÃO DE CICATRIZES.

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · US2008078340

Dados do pedido

Número

PI0817607

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

30/09/2008

Publicação

14/10/2014

PCT

US2008078340

Andamento no INPI

  1. Depósito30/09/08
  2. Publicação14/10/14
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 12/07/2022. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

V. I. (pessoa física)

US

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Inventores

I. P. (pessoa física)

US

N. W. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

60/997,166 · 30/09/2007

Resumo técnico

COMPOSIÃÃES A BASE DE GEL DE SILICONE PARA CICATRIZAÃÃO DE FERIMENTOS E REDUÃÃO DE CICATRIZES. A presente invenção refere-se a uma composição que compreende um siloxano cíclico, um fluido oclusivo de silicone, um gel oclusivo de silicone e um pó de resina de silicone. A composição é útil para a cicatrização de ferimentos.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Adição na publicação

#15.35

12/07/2022

RPI 2688

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2430 de 01-08-2017 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

21/11/2017

RPI 2446

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 9ª anuidade.

01/08/2017

RPI 2430

7.7

NOTIFICAÇÃO DE DEVOLUÇÃO DO PEDIDO POR NÃO SE ENQUADRAR NO ART. 229-C DA LPI.

28/03/2017

RPI 2412

Ciência (anuência ANVISA - art. 229-C)

#7.4

13/10/2015

RPI 2336

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

14/10/2014

RPI 2284

Alteração de dados cadastrais

#1.1

23/08/2011

RPI 2120

Monitoramento de patentes

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