Concessão da patente
#16.1
10 (dez) anos contados a partir de 18/06/2019, observadas as condições legais
18/06/2019
RPI 2528
Dados do pedido
Número
PI0805335Tipo
Depósito
Publicação
Patente concedida em 18/06/2019 e em vigor até 28/11/2028. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:28/11/2028
Última movimentação publicada pelo INPI: 18/06/2019. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
M. A. (pessoa física)
IT
Inventores
A. F. (pessoa física)
IT
P. M. (pessoa física)
IT
R. R. (pessoa física)
IT
Classificação IPC
Prioridades unionistas
EP
07425752.8 · 28/11/2007
Resumo técnico
Método para acionar um acionador niaraulico através as uma válvula solenóide de proporção controlada por pressão. Um método para acionar um acionador hidráulico (13) fornecido com uma válvula solenóide de proporção controlada por pressão (21); o método inclui as etapas de: determinar uma primeira contribuição de Ioop aberto (Ip) de acordo com a taxa de fluxo do óleo pressurizado (Q~ FF~) que cruza a válvula solenóide de proporção (21) e de acordo com a pressão desejada de carga (P~ carga~) dentro da câmara de acionamento (20); determinar uma segunda contribuição de Ioop aberto (I~ QFF~) de acordo com a posição desejada (X~ spooIRef~) da bobina (29) da válvula solenóide de proporção (21); determinar uma terceira contribuição de Ioop fechado (l~ QCL~) de acordo com a diferença ( x) entre um valor desejado (X~ REF~) da posição do pistão móvel (22) e um valor real (X) da posição do pistão móvel (22); e calcular um valor desejado da corrente de acionamento elétrica (l~ TOT~) da válvula solenóide de proporção (21) através de uma soma algébrica das três contribuições (l~ p~, I~ QFF~, I~ QCL~). (figura 3)
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#16.1
10 (dez) anos contados a partir de 18/06/2019, observadas as condições legais
18/06/2019
RPI 2528
#9.1
21/05/2019
RPI 2524
#6.6.1
22/01/2019
RPI 2507
#3.1
21/07/2009
RPI 2011
#2.1
05/05/2009
RPI 2000
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