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Dado oficial do INPI

DISPOSITIVOS DE MEMÓRIA TRIDIMENSIONAIS

Em AnálisePatente de InvençãoPCT · CN2023078608

Dados do pedido

Patente de Invenção DISPOSITIVOS DE MEMÓRIA TRIDIMENSIONAIS de YANGTZE MEMORY TECHNOLOGIES CO., LTD. — IPC H01L 21/762
Patente de Invenção DISPOSITIVOS DE MEMÓRIA TRIDIMENSIONAIS de YANGTZE MEMORY TECHNOLOGIES CO., LTD. — IPC H01L 21/762. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.

Número

112024017212

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

28/02/2023

Publicação

10/02/2026

PCT

CN2023078608

Andamento no INPI

  1. Depósito28/02/23
  2. Publicação
  3. Exame
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Patente de Invenção (via PCT) depositado no INPI em 28/02/2023. Aguarda exame formal e publicação na RPI.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 10/02/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

YANGTZE MEMORY TECHNOLOGIES CO., LTD.

CN

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Inventores

D. Z. (pessoa física)

CN

T. Y. (pessoa física)

CN

W. Z. (pessoa física)

CN

Y. Y. (pessoa física)

CN

Z. X. (pessoa física)

CN

Z. H. (pessoa física)

CN

Dados técnicos

Resumo técnico

DISPOSITIVOS DE MEMÓRIA TRIDIMENSIONAIS. A presente invenção refere-se às modalidades de dispositivos de memória 3D e métodos para formar o dispositivo de memória 3D. Em um exemplo, um dispositivo de memória 3D inclui uma matriz de memória e um circuito periférico ligado à matriz de memória. A matriz de memória inclui uma primeira estrutura empilhada multicamadas, primeiras estruturas de capacitor penetrando na primeira estrutura empilhada multicamadas e uma estrutura de bloqueio penetrando a primeira estrutura empilhada multicamadas. A primeira estrutura empilhada multicamadas inclui camadas dielétricas e camadas condutoras empilhadas alternadamente. Cada uma das primeiras estruturas de capacitor inclui uma camada dielétrica e uma camada de eletrodo, onde a camada dielétrica de uma primeira estrutura de capacitor está disposta entre a camada de eletrodo da primeira estrutura de capacitor e as camadas dielétricas ou as camadas condutoras da primeira estrutura empilhada multicamadas. A estrutura de bloqueio separa um subconjunto das primeiras estruturas de capacitor de outro subconjunto das primeiras estruturas de capacitor, e a estrutura de bloqueio inclui uma camada dielétrica e uma camada condutora.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

10/02/2026

RPI 2875

Alteração de dados cadastrais

#1.1

23/12/2025

RPI 2868

Monitoramento de patentes

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