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Dado oficial do INPI

MÉTODO DE DISPENSAÇÃO DE MRNA IN VIVO

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · EP2022053022

Dados do pedido

Número

112023015811

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

08/02/2022

Publicação

06/08/2024

PCT

EP2022053022

Andamento no INPI

  1. Depósito08/02/22
  2. Publicação06/08/24
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 08/02/2022, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 06/05/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

P. A. (pessoa física)

NO

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Inventores

A. H. (pessoa física)

NO

Dados técnicos

Prioridades unionistas

GB

2101726.4 · 08/02/2021

Resumo técnico

MÉTODO DE DISPENSAÇÃO DE MRNA IN VIV.A presente invenção se refere a um método in vivo para introduzir uma molécula de mRNA desprotegida no citosol de uma célula(s) em um indivíduo, através do uso de internalização fotoquímica, em que o agente fotossensibilizante é uma meso-tetrafenilclorina sulfonada, tetrafenilporfina sulfonada ou uma ftalocianina de alumínio di ou tetrassulfonada usada em uma quantidade de 0,000001 a 0,001 µg e a(s) célula(s) é/são colocada(s) em contato com a molécula de mRNA e o agente fotossensibilizante por 30 segundos a 10 minutos antes da irradiação da(s) célula(s). O método pode ser usado para expressar um polipeptídeo no indivíduo. O método também é direcionado a composições farmacêuticas contendo os agentes fotossensibilizantes e o mRNA e usos das moléculas em terapia, por exemplo, para tratar ou prevenir câncer ou uma infecção.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

06/05/2025

RPI 2835

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

18/02/2025

RPI 2824

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

06/08/2024

RPI 2796

Alteração de dados cadastrais

#1.1

15/08/2023

RPI 2745

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