10.1
Homologada a desistência do pedido solicitada através da petição N°870170010517 de 16/02/2017.
05/09/2017
RPI 2435
Dados do pedido
Número
112015008057Tipo
Depósito
Publicação
PCT
JP2013075943 O próprio depositante desistiu do pedido. O processo foi encerrado sem chegar a patente.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 05/09/2017. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
A. C. (pessoa física)
JP
Inventores
I. N. (pessoa física)
JP
K. J. (pessoa física)
JP
M. H. (pessoa física)
JP
Y. F. (pessoa física)
JP
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2012-227299 · 12/10/2012
JP
2012-230000 · 17/10/2012
JP
2012-231861 · 19/10/2012
JP
2012-280240 · 21/12/2012
JP
2013-022576 · 07/02/2013
JP
2013-111091 · 27/05/2013
Resumo técnico
SUBSTRATO ÃPTICO, DISPOSITIVO EMISSOR DE LUZ SEMICONDUTOR, E, MÃTODO DE FABRICAÃÃO DO MESMO. Um substrato óptico PP (10) é provido com um corpo de substrato, e uma estrutura côncava-convexa (20) composta de uma pluralidade de porções convexas (20a) providas sobre a superfÃcie principal do corpo do substrato, em que pelo menos um padrão (X) observável com um microscópio óptico é desenhado sobre a superfÃcie principal, um intervalo do padrão (X) é maior do que um passo da estrutura côncava-convexa (20), e em uma imagem de microscópio óptico do padrão (X), uma primeira região (Xa) é capaz de ser distinguida de uma segunda região (Xb) por uma diferença em claro e escuro, uma pluralidade de primeiras regiões (Xa) é disposta afastada uma da outra em intervalos, e a segunda região (Xb) conecta entre as primeiras regiões (Xa), de modo a realizar de modo concomitante aumentos na eficiência quântica interna IQE e aperfeiçoamentos em eficiência de extração de luz LEE de um dispositivo emissor de luz semicondutor que tenham sido compensados mutuamente.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Homologada a desistência do pedido solicitada através da petição N°870170010517 de 16/02/2017.
05/09/2017
RPI 2435
#1.3
Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.
04/07/2017
RPI 2426
#1.1
01/03/2017
RPI 2408
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