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Dado oficial do INPI

SUBSTRATO ÓPTICO, ELEMENTO EMISSOR DE LUZ SEMICONDUTOR, E, MÉTODO DE FABRICAÇÃO DE UM ELEMENTO EMISSOR DE LUZ SEMICONDUTOR

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · JP2013059635

Dados do pedido

Número

112014024516

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

29/03/2013

Publicação

25/07/2017

PCT

JP2013059635

Andamento no INPI

  1. Depósito29/03/13
  2. Publicação25/07/17
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 13/07/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

A. C. (pessoa física)

JP

Inventores

K. J. (pessoa física)

JP

M. Y. (pessoa física)

JP

Y. F. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

JP

2012-084208 · 02/04/2012

JP

2012-103489 · 27/04/2012

JP

2012-103490 · 27/04/2012

JP

2012-227295 · 12/10/2012

JP

2012-267377 · 06/12/2012

JP

2012-267488 · 06/12/2012

JP

2012-280241 · 21/12/2012

Resumo técnico

SUBSTRATO ÃPTICO, ELEMENTO EMISSOR DE LUZ SEMICONDUTOR, E, MÃTODO DE FABRICAÃÃO DE UM ELEMENTO EMISSOR DE LUZ SEMICONDUTOREm um substrato óptico (1), uma estrutura côncava-convexa (12), incluindo uma pluralidade de porções convexas independentes (131 a 134) e porções côncavas (14) providas entre as porções convexas (131 a 134), é provida sobre uma superfície. O intervalo médio Pave entre as porções convexas adjacentes (131 a 134) na estrutura côncava-convexa (12) atende a 50 nm Menor igual Pave Menor igual 1500 nm, e a porção convexa (133) tendo a altura hn de porção convexa atendendo a 0,6 h Maior igual hn Maior igual 0 h para a altura média Have de porção convexa está presente com uma probabilidade Z atendendo a 1/10000 Menor igual Z Menor igual 1/5. Quando o substrato óptico (1) é usado em um elemento emissor de luz semicondutor, deslocações em uma camada de semicondutor são dispersas para reduzir a densidade de deslocação e, assim, eficiência quântica interna IQE é melhorada, e um modo de guia de onda é removido por difusão de luz e, assim, a eficiência de extração de luz LEE é aumentada, com o resultado que a eficiência de emissão de luz do elemento emissor de luz semicondutor é aprimorada.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Adição na publicação

#15.35

13/07/2021

RPI 2636

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

23/06/2020

RPI 2581

Exigência preliminar

#6.21

31/12/2019

RPI 2556

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

04/12/2018

RPI 2500

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

25/07/2017

RPI 2429

Alteração de dados cadastrais

#1.1

06/06/2017

RPI 2422

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