MÉTODOS PARA A FORMAÇÃO DE CONFIGURAÇÕES E CHAPAS DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA.

IPC Classification

Priority claims

Abstract

"MÉTODOS PARA A FORMAÇÃO DE CONFIGURAÇÕES" Um método para produzir uma configuração resistente pré definida sobre, por ex., uma placa de impressão litográfica, placa de circuito ou máscara que compreende a exposição do modo de configuração de um revestimento sensível a radiação contendo diazida (convencionalmente considerado como um material sensível ao UV), a uma radiação não UV, tal como radiação de calor direto ou radiação infravermelha. Um positivo da imagem exposta é manifestado na revelação. Adicionalmente, tem sido achado que uma exposição por imersão à radiação UV após a exposição do modo imagem a radiação não UV significa que um negativo da imagem exposta é manifestado, na revelação.