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SUBSTRATO CONTENDO ALUMÍNIO, PRECURSOR DE CHAPA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA, E, MÉTODOS PARA PROVER UMA CHAPA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA E PARA PREPARAR O PRECURSOR DE CHAPA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA

Em ExigênciaInvention PatentPCT · US2020051722

Application data

Number

112022003266

Type

Invention Patent

Filing

09/21/2020

Publication

05/17/2022

PCT

US2020051722

Progress at the INPI

Technical opinion to answer
  1. Filing09/21/20
  2. Publication05/17/22
  3. Examination
  4. Allowance
  5. Grant
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Applicants and inventors

Applicants

EASTMAN KODAK COMPANY

US

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Inventors

J. K. (pessoa física)

US

O. M. (pessoa física)

US

O. B. (pessoa física)

US

S. M. (pessoa física)

US

Technical data

IPC Classification

Priority claims

US

16/589,240 · 10/01/2019

Abstract

SUBSTRATO CONTENDO ALUMÍNIO, PRECURSOR DE CHAPA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA, E, MÉTODOS PARA PROVER UMA CHAPA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA E PARA PREPARAR O PRECURSOR DE CHAPA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA. Os precursores de chapas de impressão litográfica são preparados com um substrato único contendo alumínio e uma ou mais camadas convertíveis em imagem sensíveis à radiação. O substrato contendo alumínio é preparado por três processos de anodização separados e sequenciais para prover uma camada interna de óxido de alumínio com uma espessura seca média (Ti) de 500 a 1.500 nm e uma multiplicidade de poros internos com um diâmetro interno médio do poro (Di) maior do que 0 < 15 nm. Uma camada intermediária de óxido de alumínio formada tem uma espessura seca (Tm) de 60 a 300 nm e uma multiplicidade de poros médios de diâmetro médio de poro médio (Dm) de 15 a 60 nm, disposta sobre a camada interna de óxido de alumínio. Uma camada alumínio de óxido de externa formada compreende uma multiplicidade de poros externos com um diâmetro externo médio do poro (Do) de 5 a 35 nm e uma espessura seca média (To) de 30 a 150 nm, disposta sobre a camada intermediária de óxido de alumínio. Dm é maior que Do que é maior que Di.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Parecer de pré-exame

#6.23

12/12/2023

RPI 2762

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

05/17/2022

RPI 2680

Alteração de dados cadastrais

#1.1

03/03/2022

RPI 2669

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