(11) 98705-3426
TrademarkIQ iconTrademarkIQ
Back to search
Official data from INPI

PRECURSOR DE CHAPA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA, MÉTODOS PARA PROVER UMA CHAPA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA E PARA PREPARAR O PRECURSOR DE CHAPA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA, E, SUBSTRATO

ConcedidaInvention PatentPCT · US2018018662

Application data

Number

112019015879

Type

Invention Patent

Filing

02/20/2018

Publication

04/14/2020

PCT

US2018018662

Progress at the INPI

  1. Filing02/20/18
  2. Publication04/14/20
  3. Examination
  4. Allowance09/19/23
  5. Grant11/07/23
  6. In force02/20/38

The patent was granted on 11/07/2023 and is in force until 02/20/2038. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.

Protection valid until:02/20/2038

Leave your contact and we will alert you

We track INPI publications and let you know as soon as this case moves.

We use your details only for this alert.

Latest action published by the INPI: 11/07/2023. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

EASTMAN KODAK COMPANY

US

See this company's full portfolio

Inventors

B. U. (pessoa física)

US

J. K. (pessoa física)

US

O. M. (pessoa física)

US

O. B. (pessoa física)

US

Technical data

Priority claims

US

15/447,651 · 03/02/2017

Abstract

Precursores de chapa de impressão litográfica são preparados com um substrato específico e uma ou mais camadas convertíveis em imagem sensíveis à radiação. O substrato inventivo é preparado por dois processos de anodização separados para prover uma camada de óxido de alumínio interna tendo uma espessura seca média (Ti) de 650 a 3.000 nm e inúmeros microporos internos tendo um diâmetro de microporo interno médio (Di) de < 15 nm. Uma camada de óxido de alumínio externa formada compreende inúmeros microporos externos tendo um diâmetro de microporo externo médio (Do) de 15 a 30 nm; uma espessura seca média (To) de 130 a 650 nm; e uma densidade de microporo (Co) de 500 a 3.000 microporos/µm2. A razão de Do para Di é maior que 1,1:1 e Do em nanômetros e a densidade de microporo (Co) de camada de óxido de alumínio externa em microporos/µm2, são definidos adicionalmente pela porosidade (Po) de camada de óxido de alumínio externa de acordo com a seguinte equação: 0,3 < Po < 0,8, em que Po é 3,14(Co)(Do2)/4.000.000.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 20/02/2018, observadas as condições legais

11/07/2023

RPI 2757

Deferimento

#9.1

09/19/2023

RPI 2750

Parecer de pré-exame

#6.23

09/13/2022

RPI 2697

Adição na publicação

#15.35

10/19/2021

RPI 2650

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

04/14/2020

RPI 2571

Alteração de dados cadastrais

#1.1

08/13/2019

RPI 2536

Patent monitoring

Track this patent in real time.

Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.