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COMPOSIÇÃO PARA REVESTIMENTO SENSÍVEL A RADIAÇÃO ÚTIL PARA PLACAS DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA E SIMILARES

Em AnáliseInvention Patent

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Application data

Number

PI9803946

Type

Invention Patent

Filing

09/21/1998

Publication

03/27/2001

View on INPI

Progress at the INPI

Filing09/21/98
Publication03/27/01
Abandoned
Allowance
Grant
In force

The application was abandoned at the INPI. The case ended without a patent and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 03/27/2001. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

IBF Industria Brasileira de Filmes S/A.

RJ, BR

Inventors

A. A. (pessoa física)

L. A. (pessoa física)

M. P. (pessoa física)

M. A. (pessoa física)

Technical data

IPC Classification

C08K 5/18 C08K 5/23 C08L 61/06 C08L 61/10

Abstract

Patente de Invenção: "COMPOSIÇÃO PARA REVESTIMENTO SENSÍVEL A RADIAÇÃO ÚTIL PARA PLACAS DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA E SIMILARES" . Trata-se de uma composição, que é primariamente sensível a energia na região do infravermelho próximo e do infravermelho e que compreende sistema duplo de polímero, um material absorvente infravermelho que absorve no comprimento de onda desejado, um composto gerador de ácido e um composto estabilizador de ácido. A composição pode ser aplicada ao substrato apropriado é útil para prover placas de impressão litográfica em offset, filme para prova de cor ou imagem resist.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Publicação do pedido arquivado definitivamente

#3.6

03/27/2001

RPI 1577

Arquivamento - Art. 17 §2° da LPI

#11.11

Prioridade interna do PI 9901906-0

08/01/2000

RPI 1543

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