“Composto sensível à radiação infravermelha, seus uso e processo de preparação, composição compreendendo o mesmo, uso da mesma, substrato revestido pela mesma e processo de revestimento de substratos”.

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Abstract

"COMPOSTO SENSÍVEL A RADIAÇÃO INFRAVERMELHA, SEUS USO E PROCESSO DE PREPARAÇÃO, COMPOSIÇÃO COMPREENDENDO O MESMO, USO DA MESMA, SUBSTRATO REVESTIDO PELA MESMA E PROCESSO DE REVESTIMENTO DE SUBSTRATOS". A presente invenção refere-se a um composto sensível à radiação infravermelha e a novas composições para revestimento, utilizando os ditos compostos, em que estas composições são apropriadas para revestimento de substratos, particularmente chapas de impressão litográfica de alumínio ou poliéster, em filmes para prova de cor e foto-resists. Uma composição para revestimento, que é primariamente sensível a energia na região do infravermelho, é compreendida por duas camadas, sendo que a primeira camada contém um composto resultante da reação entre uma resina fenólica derivada de bisfenol A e um corante absorvedor de radiação infravermelha e a segunda camada contém um polímero ou mais de um polímero que se adere a mistura de polímeros da primeira camada tornando-a insolúvel em revelador convencional para chapas positivas. que insolubiliza o polímero fenólico da primeira camada.