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PROCESSO PARA A LIMPEZA E O ACABAMENTO DE SUPERFÍCIES DE LATAS DE ALUMÍNIO

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · US1995011049

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Application data

Number

PI9509075

Type

Invention Patent

Filing

09/12/1995

Publication

09/30/1997

PCT

US1995011049

View on INPI

Progress at the INPI

Filing09/12/95
Publication09/30/97
Examination
Allowance07/30/02
Grant10/28/03
Terminated07/23/13

The patent was granted on 10/28/2003 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 07/23/2013. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

H. C. (pessoa física)

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Inventors

G. R. (pessoa física)

J. B. (pessoa física)

T. K. (pessoa física)

Technical data

IPC Classification

C10M 133/04 C10M 173/02 C11D 1/62 C11D 3/36

Priority claims

08/309839 · 09/21/1994

Abstract

Patente de Invenção "PROCESSO PARA A LIMPEZA E O ACABAMENTO DE SUPERFÍCIES DE LATAS DE ALUMÍNIO". O coeficiente de atrito de superfície de latas de alumínio após alcalina e secagem pode ser substancialmente reduzido através da adição, a este limpador alcalino, de um aditivo melhorador de modalidade, de preferância, um sal de amônio quaternário tensoativo com susbtituintes hidroxietila nos átomos de nitrogênio quartenário. Desta forma, pode-se obter uma superfície de lata adequada para tranporte automático e com adesão de alta qualidade de laca e tinta de impressão, se desejado, sem incluir qualquer teor substancial de fluoreto em qualquer estágio de tratamento.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

referente ao despacho 24.3 na RPI 2050 de 20/04/2010, e comprovar o recolhimento da 15ª,16ª,17ª e 18ª anuidades.

07/23/2013

RPI 2220

24.3

Referente a 10ª, 11ª, 12ª, 13ª e 14ª anuidade(s),

04/20/2010

RPI 2050

Concessão da patente

#16.1

10/28/2003

RPI 1712

9.1.3

Ref. a RPI 1647 de 30/07/2002, por não ter sido apostilado.Na reivindicação nº4 nas fórmulas químicas onde se lê:Q-(CHOH)a -Q e MOOC-[CH2C(OH)(COOH)]b-COOM, cada um dentre Q e Q,….; cada um dentre M e M....; o correto é: " Q-(CHOH)a-Q" e MOOC-[CH2C(OH)(COOH)]b-COOM,'cada um dentre Q e Q',.....; cada um dentre M e M'.....'.

12/24/2002

RPI 1668

Deferimento

#9.1

07/30/2002

RPI 1647

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

02/26/2002

RPI 1625

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

09/30/1997

RPI 1400

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