COMPOSIÇÃO LÍQUIDA ÁCIDA AQUOSA, PROCESSO PARA TRATAR UMA SUPERFÍCIE DE METAL, E, ARTIGO DE MANUFATURA

IPC Classification

Priority claims

Abstract

Patente de Invenção "COMPOSIÇÃO LÍQUIDA ÁCIDA AQUOSA, PROCESSO DE TRATAR UMA SUPERFÍCIE DE METAL, E, ARTIGO DE MANUFATURA". Um tratamento líquido aquoso isento de cromato quimicamente e termicamente estável para metais, especialmente alumínio, que confere resistência à corrosão tão boa quanto aquela dos tratamentos contendo cromato convencionais, contém água e: (A) um componente selecionado do grupo que consiste de H~ 2~TiF~ 6~, H~ 2~ZrF~ 6~, H~ 2~HfF~ 6~, H~ 2~GeF~ 6~, H~ 2~SnF~ 6~, H~ 2~BF~ 6~ e misturas dos mesmos; e (B) um componente selecionado do grupo que consiste de ácidos carboxílicos orgânicos solúveis em água que contêm pelo menos dois grupos hidroxila, exclusivos dos grupos hidroxila que fazem parte de quaisquer grupos carboxila, por grupo carboxila em cada molécula de ácido, os sais solúveis em água de tais ácidos, e misturas de quaisquer dois ou mais destes ácidos e sais; e, opcionalmente, um ou mais dos seguintes: (C) um componente selecionado do grupo que consiste dos elementos Ti, Zr, Hf, Al, Si, Ge, Sn e B, os óxidos, hidróxidos e carbonatos de Ti, Zr, Hf, Al, Si, Ge, Sn e B e misturas de quaisquer dois ou mais destes óxidos, hidróxidos e carbonatos destes elementos; (D) um componente selecionado do grupo que consiste de polímeros e copolímeros solúveis em água e dispersíveis em água de um ou mais x-(N-R^ 1^-N-R^ 2^-aminometil)-4- hidróxi-estirenos, quando x = 2, 4 5 ou e, R^ 1^ representa um grupo alquila contendo de 1 a 4 átomos de carbono e R^ 2^ representa um grupo substituinte de acordo com a fórmula geral H(CHOH)~ n~CH~ 2~-, quando n é um número inteiro de 1 a 7; (E) um componente de ajuste de pH selecionado do grupo que consiste de ácidos inorgânicos e materiais alcalinos inorgânicos que não contêm fluor; (F) um componente selecionado do grupo que consiste de ácidos inorgânicos que contêm fluor, mas que não contêm qualquer um dos elementos Ti, Zr, Hf, Al, Si, Ge, Sn e B; e (G) uma quantidade redutora de espuma de um componente agente anti-espumante.