Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
08/29/2000
RPI 1547
Application data
Number
PI9405973Type
Filing
Publication
PCT
US1994003907 The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
Cauldron Limited Partnership
US
Inventors
A. E. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
045165 · 04/12/1993
Abstract
São descritos um equipamento e um processo para a remoção de contaminantes superficiais de uma superfície de um substrato que propiciam um fluxo laminar de gás inerte (18) sobre a superfície do substrato (12) ao mesmo tempo que irradia o substrato. A presente invenção permite a remoção de contaminantes superficiais sem alterar a estrutura cristalina molecular superficial do substrato. A fonte de irradiação de alta energia inclui um laser pulsante ou de onda contínua ou uma lâmpada de alta energia.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.2
08/29/2000
RPI 1547
#6.1
11/23/1999
RPI 1507
#1.3
12/12/1995
RPI 1306
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