Application data
Number
PI0016627Type
Filing
Publication
PCT
US2000033603 The patent was granted on 05/03/2011 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 12/01/2015. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Kodak Polychrome Graphics Company LTD.
US
Inventors
J. P. (pessoa física)
US
J. H. (pessoa física)
US
K. S. (pessoa física)
US
M. J. (pessoa física)
DE
N. M. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
09/469,493 · 12/22/1999
Abstract
"CHAPA PARA IMPRESSÃO LITOGRÁFICA TENDO UMA RESISTÊNCIA QUÍMICA ELEVADA". São descritos elementos que podem formar imagem utilizáveis como membros de impressão litográfica. Os elementos contêm um substrato, uma camada inferior e uma camada de topo. A camada inferior contém uma combinação de materiais poliméricos que proporcionam resistência tanto à solução de fonte como a lavagens agressivas, tais como a lavagem com UV. A camada inferior pode ser usada tanto em elementos que podem formar imagens de modo térmico como de modo fotoquímico.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2284 de 14-10-2014 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
12/01/2015
RPI 2343
#21.6
Referente à 14ª anuidade.
10/14/2014
RPI 2284
#16.1
05/03/2011
RPI 2104
#9.1
10/05/2010
RPI 2074
#6.1
05/04/2010
RPI 2052
#6.1
07/07/2009
RPI 2009
#1.3
09/03/2002
RPI 1652
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