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Official data from INPI

PROCESSO PARA PRODUZIR UM MOLDE PRÉ-DETERMINADO; PRECURSOR POSITIVO DE TRABALHO; PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE UM PRECURSOR POSITIVO DE TRABALHO; COMPOSIÇÃO POSITIVA DE TRABALHO; SUBSTÂNCIA POLIMÉRICA FUNCIONALIZADA; E PROCESSO PARA FABRICAÇÃO DE UMA SUBSTÂNCIA POLIMÉRICA.

ExtintaInvention PatentPCT · GB1998001953

Application data

Number

PI9810668

Type

Invention Patent

Filing

07/02/1998

Publication

09/04/2001

PCT

GB1998001953

Progress at the INPI

  1. Filing07/02/98
  2. Publication09/04/01
  3. Examination
  4. Allowance03/27/07
  5. Grant09/25/07
  6. Terminated11/24/15

The patent was granted on 09/25/2007 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 11/24/2015. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Kodak Polychrome Graphics Company Ltd.

US

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Inventors

A. M. (pessoa física)

GB

C. M. (pessoa física)

GB

K. R. (pessoa física)

GB

M. S. (pessoa física)

GB

S. B. (pessoa física)

GB

Technical data

IPC Classification

Priority claims

GB

9714169.1 · 07/05/1997

GB

9714172.5 · 07/05/1997

GB

9809346.1 · 05/01/1998

Abstract

"PROCESSOS PARA FORMAÇÃO DE MOLDES E MATERIAIS SENSÍVEIS A RADIAÇÃO" Processo para produção de um molde resistente pre-determinado, sobre, por exemplo, um clichê litográfico, painel de circuito ou máscara, compreende a exposição da reprodução de um revestimento positivo de trabalho sensível a radiação empregando uma radiação apropriada, tal como, radiação de calor direto, radiação ultravioleta, radiação visível, radiação infravermelha ou radiação por feixe de elétrons. O processo é caracterizado pelo uso de um novo material polimérico que é funcionalizado por grupos Q para tornar o mesmo insolúvel em um revelador, porém, tal que, a exposição a radiação torna o mesmo solúvel. Os grupos Q não são grupos diazido como é convencional, porém são grupos que não liberam nitrogênio, quando expostos a radiação e possuem capacidade de ligação de hidrogênio. Exemplos de grupos Q são 2-naftilssulfonilóxi, 2-tienilssulfonilóxi, dansilóxi, p-toluenossulfonilóxi, benzilóxi e n-butilssulfonilóxi.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2261 de 06-05-2014 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

11/24/2015

RPI 2342

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 16ª anuidade.

05/06/2014

RPI 2261

Concessão da patente

#16.1

09/25/2007

RPI 1916

Deferimento

#9.1

03/27/2007

RPI 1890

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

12/12/2006

RPI 1875

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

08/15/2006

RPI 1858

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

09/04/2001

RPI 1600

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