MÉTODO E SISTEMA PARA DETERMINAR A POSIÇÃO LOCAL DE PELO MENOS UM ELEMENTO ÓPTICO EM UMA MÁQUINA PARA PROCESSAMENTO A LASER DE UM MATERIAL, USANDO TÉCNICAS DE INTERFEROMETRIA ÓPTICA DE BAIXA COERÊNCIA

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MÉTODO E SISTEMA PARA DETERMINAR A POSIÇÃO LOCAL DE PELO MENOS UM ELEMENTO ÓPTICO EM UMA MÁQUINA PARA PROCESSAMENTO A LASER DE UM MATERIAL, USANDO TÉCNICAS DE INTERFEROMETRIA ÓPTICA DE BAIXA COERÊNCIA.São descritos um método e um sistema para determinar a posição local de pelo menos um elemento óptico associado a um percurso óptico para transportar um feixe de laser em um cabeçote de trabalho de uma máquina para processamento a laser de um material, compreendendo:- gerar um respectivo feixe de radiação óptica de medição de baixa coerência, conduzir o feixe de medição em direção ao elemento óptico, e conduzir o feixe de medição refletido ou difundido a partir do elemento óptico em direção a um arranjo de sensores ópticos interferométricos;- gerar um respectivo feixe da radiação óptica de referência de baixa coerência, e conduzir o feixe de referência em direção ao arranjo de sensores ópticos interferométricos;- sobrepor o feixe de medição e do feixe de referência em uma região comum de incidência do arranjo de sensores;- detectar a posição de um padrão de franjas de interferência entre o feixe de medição e o feixe de referência na região de incidência; e- determinar uma diferença no comprimento óptico entre o percurso óptico de medição e o percurso óptico de referência, em função da posição do padrão de interferência ao longo de um eixo de iluminação da região de incidência ou da frequência do padrão de interferência no domínio da frequência, que é indicativa de uma diferença entre (a) a posição local atual do elemento óptico e (b) a predeterminada posição local nominal do elemento óptico.