MÉTODO E SISTEMA PARA DETERMINAR A POSIÇÃO DE UM ELEMENTO DE UM SISTEMA ÓPTICO EM UM CONJUNTO PARA PROCESSAR OU MEDIR UM OBJETO, BEM COMO A POSIÇÃO DO DITO OBJETO EM RELAÇÃO AO DITO CONJUNTO, POR MEDIÇÕES INTERFEROMÉTRICAS PARALELAS

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MÉTODO E SISTEMA PARA DETERMINAR A POSIÇÃO DE UM ELEMENTO DE UM SISTEMA ÓPTICO EM UM CONJUNTO PARA PROCESSAR OU MEDIR UM OBJETO, BEM COMO A POSIÇÃO DO DITO OBJETO EM RELAÇÃO AO DITO CONJUNTO, POR MEDIÇÕES INTERFEROMÉTRICAS PARALELAS.São descritos métodos e sistemas para a determinação da posição relativa de um elemento de um sistema óptico de um conjunto para processamento ou para medição de um objeto ao longo de uma linha de medição predeterminada associada ao sistema e para a determinação da distância de separação entre uma ferramenta de processamento ou um instrumento de medição e um objeto externo a ele. Estes envolvem a geração de um feixe de medição e de um feixe de referência de uma radiação óptica de baixa coerência, sendo que o feixe de medição e o feixe de referência, alternadamente ou em combinação, compreendem um feixe principal e um feixe adicional multiplexado. O feixe de medição, conduzido em direção ao elemento do sistema óptico ou ao objeto, e aí retrorrefletido, é sobreposto ao feixe de referência em uma região de incidência comum de uma disposição de sensores ópticos interferométricos. A posição ou a frequência de um padrão de franjas de interferência principal e um padrão de franjas de interferência adicional são detectados nele e, em função destes, é determinada uma diferença entre (a) a posição do elemento do sistema óptico ou a distância de separação entre as ferramentas de processamento ou instrumento de medição e o objeto externo a ele, e (b) uma posição nominal predeterminada ou, respectivamente, uma distância nominal de separação.