23.19
Patente extinta em 18/11/2014
23/06/2015
RPI 2320
Depositantes
Novartis AG (Novartis SA) (Novartis Inc.)
CH
Inventores
J. M. (pessoa física)
CH
N. C. (pessoa física)
CH
P. R. (pessoa física)
CH
P. H. (pessoa física)
CH
R. G. (pessoa física)
CH
S. S. (pessoa física)
CH
W. S. (pessoa física)
CH
Y. Y. (pessoa física)
CH
Classificação IPC
Prioridades unionistas
CH
1169/94 · 18/04/1994
Resumo técnico
Patente de Invenção: "NOVAS AMIDAS DO ÁCIDO DELTA-AMINO-GAMA-HIDRÓXI-ARILALCANÓICO". Nova amida do ácido -amino- -hidróxi- -aril-alcanóico de fórmula I onde R~ 1~ é hidrogênio, hidróxi, alcóxi inferior, cicloalcóxi, alcóxi inferior-alcóxi inferior ou carbóxi livre ou esterificado ou amidado-alcóxi inferior, R~ 2~ é hidrogênio, alquila inferior, cicloalquila, alcóxi inferior-alquila inferior, alcóxi inferior-alcóxi inferior-alquila inferior, cicloalcóxi-alquila inferior, hidróxi, hidróxi opcionalmente alcanoilado inferior, halogenado ou sulfonilado-alcóxi inferior; amino-alquila inferior que é não-substituída ou substituída por alquila inferior, por alcanoíla inferior e/ou por alcoxicarbonila inferior; heteroarila opcionalmente hidrogenada-alquila inferior; amino-alcóxi inferior que é substituído por alquila inferior, por alcanoíla inferior e/ou alcoxicarbonila inferior; oxo-alcóxi inferior, alcóxi inferior, cicloalcóxi, alquenilóxi inferior, cicloalcóxi-alcóxi inferior, alcóxi inferior-alcóxi inferior, alcóxi inferior-alquenila inferior, alquenilóxi inferior-alcóxi inferior, alcóxi inferior-alquenilóxi inferior, alquenilóxi inferior-alquila inferior, alcanoíla inferior-alcóxi inferior, alquiltio inferior opcionalmente S-oxidado-alcóxi inferior, alquiltio inferior-(hidróxi)-alcóxi inferior, aril-alcóxi inferior, heteroalia opcionalmente hidrogenada-alcóxi inferior, ciano-alcóxi inferior, carbóxi livre ou esterificado ou amidado-alcóxi inferior, ou carbóxi livre ou esterificado ou amidado-alquila inferior, R~ 3~ é alquila inferior opcionalmente halogenada, alcóxi inferior-alquila inferior, cicloalcóxi-alquila inferior, hidróxi-alquila inferior, alquiltio inferior opcionalmente S-oxidado-alquila inferior, heteroariltio opcionalmente hidrogenado-alquila inferior, heteroarila opcionalmente hidrogenada-alquila inferior; amino-alquila inferior que é não-substituída ou N-mono ou N,N-dialquilada inferior, N-alcanoilada inferior ou N-alcanossulfonilada inferior ou N,N-dissubstituída por alquileno inferior, por aza-alquileno inferior não-substituído ou N'-alquilado inferior ou N'-alcanoilado inferior, por oxa-alquileno inferior ou por tia-alquileno inferior opcionalmente S-oxidado; ciano-alquila inferior, carbóxi livre ou esterificado ou amidado-alquila inferior, cicloalquila, arila, hidróxi, alcóxi inferior, cicloalcóxi, alcóxi inferior-alcóxi inferior, cicloalcóxi-alcóxi inferior, hidróxi-alcóxi inferior, aril-alcóxi inferior, alcóxi inferior opcionalmente halogenado, alquiltio inferior opcionalmente S-oxidado-alcóxi inferior, heteroarila opcionalmente hidrogenada-alcóxi inferior, heteroariltio opcionalmente hidrogenado-alcóxi inferior; amino-alcóxi inferior que é não-substituído ou N-mono ou N,N-dialquilado inferior, N-alcanoilado inferior ou N-alcanossulfonilado inferior ou substituído por alquileno inferior, por aza-alquileno inferior não-substituído ou N'-alquilado inferior ou N'-alcanoilado inferior, por oxa-alquileno inferior ou por tia-alquileno inferior opcionalmente S-oxidado; ciano-alcóxi inferior ou carbóxi livre ou esterificado ou amidado-alcóxi inferior, ou juntamente com R~ 4~ é alquilenodióxi inferior ou um anel benzo ou cicloexeno fundido, R~ 4~ juntamente com R~ 3~ é alquilenodióxi inferior ou um anel benzo ou cicloexeno fundido, ou é hidrogênio, alquila inferior, hidróxi, alcóxi inferior ou cicloalcóxi, X é metileno ou hidroximetileno, R~ 5~ é alquila inferior ou cicloalquila, R~ 6~ é amino não-substituído ou N-mono ou N,N-dialquilado inferior ou N-alcanoilado inferior, R~ 7~ é alquila inferior, alquenila inferior, cicloalquila ou aril-alquila inferior, e R~ 8~ é alquila inferior, cicloalquila, hidróxi livre ou alifaticamente esterificada ou eterificada alquila inferior; amino-alquila inferior que é não-substituída ou N-alcanoilada inferior ou N-mono ou N,N-dialquilada inferior ou N,N-dissubstituída por alquileno inferior, por hidróxi-, alcóxi inferior- ou alcanoilóxi inferior- alquileno inferior, por aza-alquileno inferior não-substituído ou N'-alcanoilado inferior ou N'-alquilado inferior, por oxa-alquileno inferior ou por tia-alquileno inferior opcionalmente S-oxidado; carbóxi livre ou esterificado ou amidado-alquila inferior, dicarbóxi-alquila inferior livre ou esterificada ou amidada, carbóxi livre ou esterificado ou amidado-(hidróxi)-alquila inferior, carboxicicloalquila livre ou esterificada ou amidada-alquila inferior, ciano-alquila inferior, alcanossulfonila inferior-alquila inferior, tiocarbamoíla não-substituída ou N-mono ou N,N-dialquilada inferior-alquila inferior, sulfamoíla não-substituída ou N-mono ou N,N-dialquilada inferior-alquila inferior, ou um radical heteroarila ligado via um átomo de carbono e opcionalmente hidrogenado e/ou oxo-substituído, ou alquila inferior substituída por um radical heteroarila ligado via um átomo de carbono e opcionalmente hidrogenado e/ou oxo-substituído, ou um sal da amida.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Patente extinta em 18/11/2014
23/06/2015
RPI 2320
Referente ao despacho 21.6 na RPI 2248 de 04/02/2014.
05/03/2014
RPI 2252
#21.6
Referente à 19ª anuidade.
04/02/2014
RPI 2248
Renumerado o pedido de PI1100656-0 para PP1100656-0.
09/11/2010
RPI 2079
Ref. RPI nº 023.411, de 07/07/2000, mantida a vigência, ou seja, 18/11/2014.
24/06/2003
RPI 1694
06/06/2000
RPI 1535
Deferido com apostilamento e exclusão da Reivindicação nº 9, em fase do disposto no Art. 10 inciso VIII da LPI 9279/96
02/05/2000
RPI 1530
14/12/1999
RPI 1510
04/11/1997
RPI 1405
#23.1
09/09/1997
RPI 1397
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