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Dado oficial do INPI

CIRCUITO E PROCESSO DE RECEPÇÃO OU DE EMISSÃO DE ONDAS DE HIPERFREQÜÊNCIAS

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · FR1999001105

Dados do pedido

Número

PI9906442

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

10/05/1999

Publicação

11/07/2000

PCT

FR1999001105

Andamento no INPI

  1. Depósito10/05/99
  2. Publicação11/07/00
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 10/05/1999, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 20/07/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Alcatel

FR

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Inventores

B. P. (pessoa física)

FR

G. C. (pessoa física)

FR

J. G. (pessoa física)

FR

J. T. (pessoa física)

FR

T. P. (pessoa física)

FR

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

FR

98 06201 · 15/05/1998

Resumo técnico

Patente de Invenção: "CIRCUITO E PROCESSO DE RECEPÇÃO OU DE EMISSÃO DE ONDAS DE HIPERFREQÜÊNCIAS" . A invenção refere-se a um circuito de recepção (ou de emissão) de ondas de hiperfreqüências que compreende um meio radiante (144) para a recepção (ou a emissão), meios de filtragem para eliminar ondas de hiperfreqüências emitidas (ou recebidas) em freqüências diferentes, pelo meio radiante, e meios amplificadores das ondas recebidas (ou emitidas). O circuito possui um primeiro (ou último) estágio (150, 152; 182, 184) conectado ao meio radiante que compreende um filtro planar (150; 182) cuja taxa de rejeição das freqüências de emissão (ou de recepção) é limitada a uma fração, de preferência uma parte pequena, da rejeição total necessária para eliminar as freqüências de emissão (ou de recepção) e um amplificador (152;184) cujo ganho também é uma fração do ganho total do circuito. De preferência, o filtro planar do primeiro (ou último) estágio é conectado diretamente ao meio radiante. O ruído visto pelo elemento radiante é minimizado.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

20/07/2004

RPI 1750

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

02/12/2003

RPI 1717

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

11/07/2000

RPI 1540

Monitoramento de patentes

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