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Dado oficial do INPI

PROCESSO E APARELHO PARA CONTROLAR UM DIÂMETRO EXTERNO DE UM TUBO DE ISCA DE PREFORMA DURANTE UM PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE CAMADA DE VIDRO

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0104334

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

27/09/2001

Publicação

28/05/2002

Andamento no INPI

  1. Depósito27/09/01
  2. Publicação28/05/02
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 16/07/2013. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Alcatel

FR

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Inventores

M. Y. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

09/699,386 · 31/10/2000

Resumo técnico

Patente de Invenção: "PROCESSO E APARELHO PARA CONTROLAR UM DIÂMETRO EXTERNO DE UM TUBO DE ISCA DE PREFORMA DURANTE UM PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE CAMADA DE VIDRO". Um processo e aparelho para controlar um diâmetro externo de um tubo de isca de preforma durante um processo de deposição de camada de vidro. O aparelho inclui uma fonte de gás em comunicação com um interior do tubo de isca de preforma. Um monitor de temperatura mede uma temperatura de uma zona quente do tubo de isca de preforma e gera um sinal de saída de temperatura, indicativo da temperatura medida. Um monitor de diâmetro mede o diâmetro da zona quente do tubo de isca de preforma e gera um sinal de saída de diâmetro, indicativo do diâmetro medido. Uma unidade de medição de pressão mede a pressão no interior do tubo de isca de preforma e gera um sinal de saída de pressão, indicativo da pressão medida. Um dispositivo de controle recebe o sinal de saída de temperatura, o sinal de saída de diâmetro, e o sinal de saída de pressão e determina uma vazão total adicionando juntos (1) uma vazão base associada com a temperatura medida, e (2) um ajustamento de vazão baseado no diâmetro medido e na pressão medida. O dispositivo de controle controla a fonte de gás para dar saída a um gás a uma vazão igual à vazão total.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2168 de 24/07/2012.

16/07/2013

RPI 2219

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 11ª anuidade.

24/07/2012

RPI 2168

Republicação - classificação IPC

#15.11

Alterada a classificação de G01B 3/00 para C03B 37/07, C03B 37/018, G01B 11/12

20/09/2011

RPI 2124

Publicação do pedido de patente

#3.1

28/05/2002

RPI 1638

Pedido de patente depositado

#2.1

02/01/2002

RPI 1617

Monitoramento de patentes

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