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Dado oficial do INPI

COBERTURA PARA UM BANHO DE NÉVOA DE GÁS SOB PRESSÃO

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · JP2009071532

Dados do pedido

Número

PI0923712

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

25/12/2009

Publicação

27/08/2019

PCT

JP2009071532

Andamento no INPI

  1. Depósito25/12/09
  2. Publicação27/08/19
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 05/10/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

ACP JAPAN CO., LTD

JP

S. N. (pessoa física)

JP

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

S. N. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Prioridades unionistas

JP

2008-009179 · 26/12/2008

JP

2008-009180 · 26/12/2008

JP

2009-001396 · 10/03/2009

JP

2009-001397 · 10/03/2009

Resumo técnico

COBERTURA PARA UM BANHO DE NÉVOA DE GÁS SOB PRESSÃOÉ provida uma cobertura de banho de névoa de gás que permite absorção efetiva através da pela e membra mucosa de um organismo, que também permite descarga de ar ou de um gás e uma névoa de gás dentro da cobertura de banho de névoa de gás sob pressão,, e que permite que a pressão dentro da cobertura seja ajustada facilmente. A cobertura de banho de névoa de gás (100) encapsula uma névoa de gás, que é criada pela pulverização e dissolução de um gás dióxido de carbono, oxigênio, ou um gás misturado compreendendo gás dióxido de carbono e oxigênio a uma concentração acima de um valor específico, em um líquido, e que coloca o mesmo em contato com a pele e membranas mucosas de um organismo. Acobertura é equipada com um elemento de cobertura do organismo na forma de saco (101 que cobre a pele e membranas mucosas de um organismo. supramencionado, um dispositivo de restrição (102) que provido em uma parte aberta do elemento de cobertura do organismo supramencionado (101) e que restringe a parte da abertura a fim de impedir dissipação de névoa de gás supramencionada, um orifício de suprimento de névoa de gás (103) que éconectado no interior da cobertura de banho de névoa de gás sob pressão supramencionada (100) a fim de introduzir a névoa de gás supramencionada na dita cobertura de banho de névoa de gás sob pressão (100), e um orifício de descarga (104) que descarrega o ar e a névoa de gás ou gás supramencionado encapsulado na cobertura de banho de névoa de gás sob pressão supramencionada (100) e ajusta a sua quantidade.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Adição na publicação

#15.35

05/10/2021

RPI 2648

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2539 de 03-09-2019 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

24/12/2019

RPI 2555

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente às 6ª, 7ª, 8ª e 9ª anuidades.

03/09/2019

RPI 2539

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

27/08/2019

RPI 2538

Alteração de dados cadastrais

#1.1

21/11/2012

RPI 2185

Monitoramento de patentes

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