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Dado oficial do INPI

COBERTURA PARA UM BANHO DE NÉVOA DE GÁS SOB PRESSÃO.

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · JP2009071534

Dados do pedido

Número

PI0923655

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

25/12/2009

Publicação

19/01/2016

PCT

JP2009071534

Andamento no INPI

  1. Depósito25/12/09
  2. Publicação19/01/16
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 20/12/2016. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

ACP Japan CO., Ltd

JP

S. N. (pessoa física)

JP

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

S. N. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Prioridades unionistas

JP

2008-009181 · 26/12/2008

JP

2008-009182 · 26/12/2008

JP

2009-001398 · 10/03/2009

JP

2009-001399 · 10/03/2009

Resumo técnico

COBERTURA PARA UM BANHO DE NÃVOA DE GÃS SOB PRESSÃOà provida uma cobertura de banho de névoa de gás que permite absorção efetiva através da pele e membrana mucosa de um organismo, que também permite descarga de ar ou de um gás e uma névoa de gás dentro da cobertura de banho de névoa de gás sob pressão, e que permite que a pressão dentro da cobertura seja ajustada facilmente. A cobertura de banho de névoa de gás (100) encapsula uma névoa de gás, que é criada pela pulverização e dissolução de um gás dióxido de carbono, oxigênio, ou um gás misto compreendendo gás dióxido de carbono e oxigênio a uma concentração acima de um valor específico, em um líquido, e que coloca a mesma em contato com a pele e membranas mucosas de um organismo. A cobertura é equipada com um elemento de cobertura do organismo na forma de saco (101 que cobre a pele e membrana mucosa do organismo supramencionado, uma parte adesiva (103) que é provida na circunferência do elemento de cobertura do organismo (102) e adere na pele e membrana mucosa do organismo, um orifício de suprimento de névoa de gás (104) que introduz uma névoa de gás na cobertura do banho de névoa de gás sob pressão (100), e um orifício de descarga (105) que descarrega o ar e a névoa de gás ou gás supramencionado encapsulado na cobertura de banho de névoa de gás sob pressão (100) e ajusta a sua quantidade. Um emplasto plano que pode conter a névoa de gás e o gás nele é configurado usando o elemento de cobertura do organismo (102) e a parte adesiva (103).

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2383 de 06-09-2016 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

20/12/2016

RPI 2398

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente às 5ª e 6ª anuidades.

06/09/2016

RPI 2383

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

19/01/2016

RPI 2350

Alteração de dados cadastrais

#1.1

21/11/2012

RPI 2185

Monitoramento de patentes

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