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Dado oficial do INPI

UNIDADE DE REVESTIMENTO A VÁCUO DE PVD

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · CH2008000485

Dados do pedido

Número

PI0820014

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

17/11/2008

Publicação

19/05/2015

PCT

CH2008000485

Andamento no INPI

  1. Depósito17/11/08
  2. Publicação19/05/15
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 05/04/2016. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH

CH

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Inventores

C. W. (pessoa física)

AT

J. R. (pessoa física)

CH

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

CH

1890/07 · 06/12/2007

Resumo técnico

UNIDADE DE REVESTIMENTO A VÃCUO E PROCESSO PARA O REVESTIMENTO SIMULTÃNEO DE VÃRIOS SUBSTRATOS PLANOS COM UMA CAMADA DE METAL DURO. A presente invenção refere-se a uma unidade de revestimento a vácuo a qual contém uma entrada de gás reativo (12), pelo menos uma fonte de revestimento de PVD (8, 21), com um cátodo (11) plano e um suporte de substrato (6) contendo vários substratos (7), sendo que o suporte de substrato (6) forma uma extensão horizontal bidimensional e o mesmo está posicionado entre pelo menos duas fontes de revestimento de PVD e que os vários substratos (7) são ferramentas de corte, com pelo menos uma aresta cortante (E), na região de borda periférica do substrato (7) plano, que estão colocadas de modo distribuído em um plano da extensão bidimensional do suporte de substrato (6), sendo que o suporte de substrato (6) está disposto posicionado de modo espaçado em um plano horizontal (3) na câmara de processo de vácuo (1), entre os cátodos (11) planos das pelo menos duas fontes de revestimento de PVD (8, 21), de tal modo que pelo menos uma parte de cada pelo menos uma aresta cortante (E) contém uma aresta cortante ativa (E) e a mesma está alinhada, de modo exposto todo o tempo em uma linha de visão direta, a pelo menos um dos cátodos (11) das fontes de revestimento de PVD (8, 21).

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2343 de 01-12-2015 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

05/04/2016

RPI 2361

Alteração de sede deferida

#25.7

23/02/2016

RPI 2355

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 7ª anuidade.

01/12/2015

RPI 2343

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

19/05/2015

RPI 2315

Alteração de dados cadastrais

#1.1

23/08/2011

RPI 2120

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