Alteração de sede deferida
#25.7
03/11/2021
RPI 2652
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Dado oficial do INPI
PROCESSO PARA REVESTIMENTO DE SUBSTRATOS COM SUPERFÍCIES DE SUBSTRATO A SEREM REVESTIDAS POR MEIO DE PULVERIZAÇÃO DE MATERIAL ALVO
Em AnálisePatente de InvençãoPCT · EP2013001853
Dados do pedido
Número
112015000253Tipo
Patente de Invenção
Depósito
24/06/2013
Publicação
27/06/2017
PCT
EP2013001853 Andamento no INPI
- Depósito24/06/13
- Publicação27/06/17
- Exame
- Deferimento27/04/21
- Concessão06/07/21
- Em vigor24/06/33
Patente concedida em 06/07/2021 e em vigor até 24/06/2033. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:24/06/2033
Última movimentação publicada pelo INPI: 03/11/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
OERLIKON SURFACE SOLUTIONS AG, PFÄFFIKON
CH
OERLIKON SURFACE SOLUTIONS AG, TRÜBBACH
CH
OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH
CH
Inventores
D. K. (pessoa física)
CH
S. K. (pessoa física)
AT
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
10 2012 013 577.7 · 10/07/2012
Resumo técnico
RESUMOPatente de Invenção: "PROCESSO DE REVESTIMENTO POR IMPULSO DE ALTA POTÊNCIA". A invenção refere-se a um processo para revestimento de substratos por meio de pulverização de materiais alvo sendo que as seguintes etapas estão abrangidas: - em uma câmara de revestimento, submeter um primeiro alvo de pulverização (Sputtertargets) de um primeiro material com um pulso de potência por meio do qual, durante um primeiro intervalo de tempo, uma primeira quantidade de energia é transferida para o alvo de pulverização (Sputtertarget), sendo que aqui a densidade máxima de potência excede 50 W/cm2 e de preferência excede 500 W/cm2 - na câmara de revestimento, submeter um segundo alvo de pulverização (Sputtertargets) de um segundo material, diferente do primeiro material, com um pulso de potência por meio do qual, durante um segundo intervalo de tempo, uma segunda quantidade de energia é transferida para o alvo de pulverização (Sputtertarget), sendo que aqui a densidade máxima de potência excede 50 W/cm2 e de preferência excede 500 W/cm2, caracterizado pelo fato de que a primeira quantidade de energia difere da segunda quantidade de energia.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Alteração de nome deferida
#25.4
19/10/2021
RPI 2650
Alteração de nome deferida
#25.4
05/10/2021
RPI 2648
Concessão da patente
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 24/06/2013, observadas as condições legais
06/07/2021
RPI 2635
Deferimento
#9.1
27/04/2021
RPI 2625
Exigência preliminar
#6.21
04/08/2020
RPI 2587
Notificação de acesso ao patrimônio genético
#6.6.1
04/12/2018
RPI 2500
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.
27/06/2017
RPI 2425
Alteração de dados cadastrais
#1.1
31/03/2015
RPI 2308
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