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Dado oficial do INPI

COMPOSTOS HETEROCÍCLICOS PARA A INIBIÇÃO DE INTEGRINAS E USO DOS MESMOS

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · EP2007004283

Dados do pedido

Número

PI0711659

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

14/05/2007

Publicação

17/01/2012

PCT

EP2007004283

Andamento no INPI

  1. Depósito14/05/07
  2. Publicação17/01/12
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 13/11/2012. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Jerini AG

DE

Inventores

C. C. (pessoa física)

DE

D. S. (pessoa física)

DE

D. V. (pessoa física)

DE

F. O. (pessoa física)

DE

G. H. (pessoa física)

DE

G. Z. (pessoa física)

DE

G. Z. (pessoa física)

DE

H. K. (pessoa física)

DE

R. S. (pessoa física)

DE

U. R. (pessoa física)

DE

Dados técnicos

Prioridades unionistas

EP

06 009872.0 · 12/05/2006

Resumo técnico

COMPOSTOS HETEROCÍCLICOS PARA A INIBIÇÃO DE INTEGRINAS E USO DOS MESMOS. A presente invenção refere-se a um composto da fórmula (I) G-Z-A-Ar- , em que A é um radical selecionado do grupo que compreende sistemas no anel aromáticos heterocíclicos de 5 membros; Ar é um radical selecionado do grupo que compreende sistemas no anel aromáticos de 5 e 6 membros opcionalmente substituídos,pelo que o sistema no anel contém 0,1, 2 ou 3 heteroátomos selecionados do grupo que compreende N, O e S; Z é um radical individual e independentemente selecionado do grupo que compreende (CH~2~)~n~-E-(CH~2~)~m~-L-(CH~2~)~k~ e (CH~2~)~m~-L-(CH~2~)~k~, em que E é um radical o qual está ausente ou presente, pelo que se E estiver presente, E seja selecionado do grupo que compreende O, S, NH, NR^a^, CO, SO, S0~2~, acetileno e etileno substituído;L é um radical o qual está ausente ou presente, pelo que se L estiver presente, L seja individual e independentemente selecionado dogrupo que compreende O, S, NH, NR^b^, CO, SO, S0~2~, etileno substituído e acetileno; e k, m e n são individual e independentemente 0,1, 2 ou 3; é um radical da fórmula (II), em que Q é um radical selecionado do grupo que compreende uma ligação direta, C1-C4 alquila, C=O, C=S, O, S, CR^a^R^b^, NR^a^NR^b^, N=N, CR^a^=N, N=CR^a^, (C=0)-O, O-(C=O), S0~2~, NR^a^, (C=O)-NR^a^, NR^a^(C=O)-NR^b^, NR^c^-(C=O), O-(C=O)-NR^c^, NR^c^-(C=O)-O, NR^c^-(C=S), (C=S)-NR^c^,NR^c^(C=S)-NR^d^, NR^c^-SO~2~ e SO~2~-NR^c^. R~1~, R^a^, R^b^, R^c^ e R^d^ são radicais os quais são individual e independentemente selecionados do grupo que compreende H, alquila, alquila substituída, cicloalquila, cicloalquila substituída, heterociclila, heterociclila substituída, arila, arila substituída, heteroarila, heteroarila substituída, arilalquila, arilalquila substituída, heteroarilalquila, heteroarilalquila substituída, cicloalquilalquila, cicloalquilalquila substituída, heterociclilalquila, heterociclilalquila substituída, alquilóxi, alquiloxialquila, alquiloxialquila substituída, alquiloxicicloalquila, alquiloxicicloalquila substituída, alquiloxiheterociclila, alquiloxiheterociclila substituida, alquiloxiarila, alquiloxiarila substituída, alquiloxihete roarila, alquiloxiheteroarila substituída, alquiltioalquila, alquiltioalquila substituída, alquiltiocicloalquila e alquiltiocicloalquila substituída, hidróxi, hidróxi substituído, oxo, tio, tio substituído, aminocarbonila, aminocarbonila substituída, formila, formila substituida, tioformila, tioformila substituida, amino, amino substituído, hidroxila, hidroxila substituída, mercapto, mercapto substituido, hidrazino, hidrazino substituido, diazeno, diazeno substitu ida, imina, imina substituída, amidino, amidino substituído, iminometilamino, iminometilamino substituído, ure ido, ureido substituído, formilamino, formilamino substituído, aminocarbonilóxi, aminocarbonilóxi substituído, hidroxicarbonilamino, hidroxicarbonilamino substituído, hidroxicarbonila, hidroxicarbonila substituida, formilôxi, formilóxi substituído, tioformilamino, tioformilamino substituído, aminotiocarbonila, aminotiocarbonila substituída, tioure ido, tioureido substituído, sufonila, sulfonila substituida, sulfonamino, sulfonamino substituído, aminossulfonila, aminossulfonila substituida, ciano e halogênio; R~2~ é uma porção hidrofóbica; R~3~é um radical selecionado do grupo que compreende OH, C1-C8 alquilóxi e aril CO-C6 alquilóxi; R~4~é um radical selecionado do grupo que compreende hidrogênio, halogênio e C1-C4 alquila; e G é um radical que contém uma porção básica.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Não apresentada a guia de cumprimento de exigência. Referente à 5ª anuidade.

13/11/2012

RPI 2184

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 5ª anuidade.

05/06/2012

RPI 2161

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

17/01/2012

RPI 2141

Alteração de dados cadastrais

#1.1

16/08/2011

RPI 2119

Monitoramento de patentes

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