Republicação - classificação IPC
#15.11
Procedimento automático de reclassificação. As classificações IPC anteriores eram: H01L 21/8247; H01L 21/8246.
27/03/2018
RPI 2464
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Dado oficial do INPI
PROCESSO DE ESPAÇADOR DUPLO PARA DISPOSITIVOS DE MEMÓRIA NÃO VOLÁTIL
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US2001007975
Dados do pedido
Número
PI0109318Tipo
Patente de Invenção
Depósito
12/03/2001
Publicação
10/12/2002
PCT
US2001007975 Andamento no INPI
- Depósito12/03/01
- Publicação10/12/02
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 12/03/2001, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 27/03/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Advanced Micro Devices, INC.
US
Inventores
A. H. (pessoa física)
US
J. S. (pessoa física)
US
M. C. (pessoa física)
US
M. R. (pessoa física)
US
T. P. (pessoa física)
US
Y. S. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
09/728.554 · 01/12/2000
US
60/190.475 · 17/03/2000
Resumo técnico
"PROCESSO DE ESPAÇADOR DUPLO PARA DISPOSITIVOS DE MEMÓRIA NÃO VOLÁTIL". Em um processo para fabricação de espaçador de duas etapas para um dispositivo de memória não volátil (1), uma camada de óxido fina (12) é depositada sobre um substrato de bolacha (3) deixando uma fenda no núcleo (24) do dispositivo de memória não volátil (1). A implantação e/ou remoção de óxido-nitreto-óxido pode ser realizada através desta fenda. Após implantação, um segundo espaçador (13) é depositado. Após a segunda deposição do espaçador, é realizada uma gravação em água-forte do espaçador periférico. O espaçador é formado pelo processo acima.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
18/04/2006
RPI 1841
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
27/09/2005
RPI 1812
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
10/12/2002
RPI 1666
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