Dado oficial do INPI

SISTEMA E MÉTODO PARA PRODUZIR CAMADAS MONOCRISTALINAS SOBRE UM SUBSTRATO

Em AnálisePatente de InvençãoPCT · SE2022050179

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Dados do pedido

Número

112023017935

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

18/02/2022

Publicação

14/11/2023

PCT

SE2022050179

Ver no INPI

Andamento no INPI

Depósito18/02/22
Publicação
Exame
Deferimento
Concessão
Em vigor

Patente de Invenção (via PCT) depositado no INPI em 18/02/2022. Aguarda exame formal e publicação na RPI.

Última movimentação publicada pelo INPI: 14/11/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

KISELKARBID I STOCKHOLM AB

Inventores

J. E. (pessoa física)

K. A. (pessoa física)

L. D. (pessoa física)

Dados técnicos

Classificação IPC

C23C 14/50 C30B 23/02 C30B 29/36

Prioridades unionistas

2150284-4 · 11/03/2021

Resumo técnico

SISTEMA E MÉTODO PARA PRODUZIR CAMADAS MONOCRISTALINA SOBRE UM SUBSTRATO. Sistema (100) para produzir uma camada monocristalina epitaxial sobre um substrato (20) que compreende: um recipiente interno (30) que define uma cavidade (5) para acomodar um material-fonte (10) e o substrato (20); um recipiente de isolamento (50) disposto para acomodar o recipiente interno (30) no mesmo; um recipiente externo (60) disposto para acomodar o recipiente de isolamento (50) e o recipiente interno (30) no mesmo; e meios de aquecimento (70) dispostos fora do recipiente externo (60) e configurados para aquecer a cavidade (5), em que o recipiente interno (30) compreende uma pluralidade de elementos espaçadores (320) dispostos para suportar o substrato (20) a um distância predeterminada acima de um material-fonte monolítico sólido (10), em que cada elemento espaçador (320) compreende uma porção de base (321) e uma porção de topo (322), em que pelo menos parte da porção de topo (322) afila em direção a um vértice ( 323) disposto para entrar em contato com o substrato (20). Um método correspondente também é revelado.