Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
24/11/2020
RPI 2603
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Dado oficial do INPI
FONTE DE PLASMA DE CÁTODO OCO
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US2014068858
Dados do pedido
Número
112017011612Tipo
Patente de Invenção
Depósito
05/12/2014
Publicação
16/01/2018
PCT
US2014068858 Andamento no INPI
- Depósito05/12/14
- Publicação16/01/18
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 24/11/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
AGC FLAT GLASS NORTH AMERICA, INC.
US
AGC GLASS EUROPE, S.A.
BE
AGC INC.
JP
ASAHI GLASS CO., LTD.
JP
Inventores
H. W. (pessoa física)
BE
J. C. (pessoa física)
US
P. M. (pessoa física)
US
T. B. (pessoa física)
BE
Dados técnicos
Classificação IPC
Resumo técnico
A presente invenção refere-se a uma fonte de plasma de cátodo oco e a métodos para tratamento de superfície ou revestimento utilizando tal fonte de plasma, compreendendo o primeiro e segundo eletrodos (1, 2), compreendendo cada eletrodo uma cavidade alongada (4), caracterizados pelo fato que as dimensões para pelo menos um dos seguintes parâmetros são selecionadas de modo a assegurar uma elevada densidade eletrônica e/ou baixa quantidade de pulverização das superfícies da cavidade da fonte de plasma, sendo esses parâmetros o formato da seção transversal da cavidade, a distância da cavidade da área da seção transversal da cavidade (11) e a largura do bico de saída (12).
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Exigência preliminar
#6.21
16/06/2020
RPI 2580
Alteração de nome deferida
#25.4
06/03/2019
RPI 2513
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
16/01/2018
RPI 2454
Alteração de dados cadastrais
#1.1
29/08/2017
RPI 2434
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