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Dado oficial do INPI

SUBSTRATO DE VIDRO COM PELÍCULA DE SÍLICA

Em ExigênciaPatente de InvençãoPCT · JP2021026520

Dados do pedido

Número

112023000727

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

14/07/2021

Publicação

31/01/2023

PCT

JP2021026520

Andamento no INPI

Parecer técnico a responder
  1. Depósito14/07/21
  2. Publicação31/01/23
  3. Exame
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

O INPI emitiu parecer técnico sobre a patenteabilidade. O depositante tem de se manifestar para o exame prosseguir.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 27/05/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

AGC FLAT GLASS NORTH AMERICA, INC.

US

A. E. (pessoa física)

BE

AGC INC.

JP

AGC VIDROS DO BRASIL LTDA.

SP, BR

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

K. M. (pessoa física)

JP

K. Y. (pessoa física)

JP

S. H. (pessoa física)

JP

S. W. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Prioridades unionistas

JP

2020-123193 · 17/07/2020

Resumo técnico

SUBSTRATO DE VIDRO COM PELÍCULA DE SÍLICA. A presente invenção refere-se a substrato de vidro com película de sílica que tem uma película de sílica que é formada com o uso de uma composição formadora de película de sílica, na qual a composição compreende um composto hidrolisável ou similares e partículas de sílica/partículas de zircônia, o composto hidrolisável compreende apenas um tetra-alcoxisilano, um composto representado pela fórmula I: R3-p(L)pSi-Q-Si(L)pR3-p (composto I), um fluoroalquilsilano que tem um grupo hidrolisável que é utilizado opcionalmente e um composto de zircônia que tem um grupo hidrolisável que é utilizado opcionalmente, e os teores de tetra-alcoxisilano, do composto I e das partículas de sílica/partículas de zircônia em termos de teor de SiO2/ZrO2 ficam dentro de faixas especificadas, respectivamente.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Parecer de pré-exame

#6.23

27/05/2025

RPI 2838

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

31/01/2023

RPI 2717

Alteração de dados cadastrais

#1.1

24/01/2023

RPI 2716

Monitoramento de patentes

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