Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
07/20/2004
RPI 1750
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Official data from INPI
MATERIAIS DE DISPOSITIVO OFTÁLMICO DE ALTO ÍNDICE REFRATIVO PREPARADO USANDO UM PROCESSO DE RETICULAÇÃO PÓS-POLIMERIZAÇÃO
ArquivadaInvention PatentPCT · US1999007362
Application data
Number
PI9909618Type
Invention Patent
Filing
04/01/1999
Publication
12/12/2000
PCT
US1999007362 Progress at the INPI
- Filing04/01/99
- Publication12/12/00
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 04/01/1999 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 07/20/2004. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Alcon Laboratories, Inc
US
Inventors
A. L. (pessoa física)
US
Technical data
IPC Classification
Priority claims
US
60/081,874 · 04/15/1998
Abstract
Patente de Invenção: ''MATERIAIS DE DISPOSITIVO OFTALMICO DE ALTO ÍNDICE REFRATIVO PREPARADO USANDO UM PROCESSO DE RETICULAÇÃO PÓS-POLIMERIZAÇÃO'' . Materiais de dispositivo oftálmico de alto índice refrativo, acrílicos, compreendendo um monômero acrílico de arila, um iniciador de polimerização do primeiro estágio e um agente de reticulação do segundo estágio são preparados em um processo em dois estágios. Os monômeros usados para formar os materiais de dispositivo oftálmico não contêm agentes de reticulação tendo mais de uma ligação insaturada. No processo do primeiro estágio, os materiais são polimerizados. No segundo estágio, os materiais são reticulados por exposição ao calor.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
12/02/2003
RPI 1717
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
12/12/2000
RPI 1562
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