(11) 98705-3426
TrademarkIQ iconTrademarkIQ
Back to search
Official data from INPI

MATERIAIS PARA DISPOSITIVOS OFTÁLMICOS COM ALTO ÍNDICE DE REFRAÇÃO

ArquivadaInvention PatentPCT · US1999007355

Application data

Number

PI9906720

Type

Invention Patent

Filing

04/01/1999

Publication

10/10/2000

PCT

US1999007355

Progress at the INPI

  1. Filing04/01/99
  2. Publication10/10/00
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 04/01/1999 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

Talk to a specialist

Latest action published by the INPI: 07/20/2004. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Alcon Laboratories, INC

US

See this company's full portfolio

Inventors

A. L. (pessoa física)

US

C. F. (pessoa física)

US

D. J. (pessoa física)

US

M. K. (pessoa física)

US

Technical data

IPC Classification

Priority claims

US

60/081,814 · 04/15/1998

Abstract

Patente de Invenção: "MATERIAIS PARA DISPOSITIVOS OFTÁLMICOS COM ALTO ÍNDICE DE REFRAÇÃO" . Esta invenção apresenta copolímeros de alto índice de refração adequados para uso em dispositivos oftálmicos. Os copolímeros compreendem a) dois ou mais monômeros de estrutura (I), onde X é H ou CH~ 3~; m é 0-10; Y é nada, O, S ou NR, onde R é H, CH~ 3~, C~ n~H~ 2n+1~ (n=1-10), iso-OC~ 3~H~ 7~, C~ 6~H~ 5~ ou CH~ 2~C~ 6~H~ 5~; Ar é qualquer anel aromático que pode ser não-substituído ou substituído com H, CH~ 3~, C~ 2~H~ 5~, n-C~ 3~H~ 7~, iso-C~ 3~H~ 7~, OCH~ 3~, C~ 6~H~ 11~, Cl, Br, C~ 6~H~ 5~ ou CH~ 2~C~ 6~H~ 5~; e b) um total de cerca de 5% molar ou menos de um ou mais monômeros de estrutura (II), onde X é H ou CH~ 3~; W é -CH~ 3~ ou (CH~ 2~=C(-X)-C(=O)-); e n é tal que o peso molecular ponderal médio é de aproximadamente 600 - 1000 se W é -CH~ 3~, e de aproximadamente 400 - 1000 se W é (CH~ 2~=C(-X)-C(=O)-).

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

07/20/2004

RPI 1750

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

12/02/2003

RPI 1717

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

10/10/2000

RPI 1553

Patent monitoring

Track this patent in real time.

Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.