(11) 98705-3426
TrademarkIQ iconTrademarkIQ
Back to search
Official data from INPI

POLÍMEROS COM UNIDADES DE MALEIMIDA N-SUBSTITUÍDA E SUA APLICAÇÃO EM MISTURAS SENSÍVEIS À RADIAÇÃO.

ArquivadaInvention Patent

Application data

Number

PI9900610

Type

Invention Patent

Filing

01/29/1999

Publication

04/11/2000

Progress at the INPI

  1. Filing01/29/99
  2. Publication04/11/00
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 01/29/1999 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

Talk to a specialist

Latest action published by the INPI: 07/06/2004. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Agfa-Gevaert Ag

DE

See this company's full portfolio

Inventors

D. E. (pessoa física)

DE

D. D. (pessoa física)

DE

Technical data

IPC Classification

Priority claims

DE

198 03 564-0 · 01/30/1998

Abstract

Patente de Invenção: "POLÍMEROS COM UNIDADES DE MALEIMIDA N-SUBSTITUÍDA E SUA APLICAÇÃO EM MISTURAS SENSÍVEIS À RADIAÇÃO" . A invenção refere-se a polímeros com unidades a partir de maleimida N-substituída, uma mistura sensível à radiação que trabalha de maneira positiva ou negativa, que contém a) um aglutinante de polímero insolúvel em água, solúvel em solução aquosa e alcalina e b) pelo menos um composto sensível à radiação, sendo que o aglutinante engloba um polímero com unidade a partir de maleimida N-substituída da fórmula (I) Além disso, a invenção refere-se a um material de desenho com um suporte e uma camada sensível à radiação, sendo que a camada consiste na mistura mencionada. O material de desenho é especialmente adequado para a preparação de desenhos em relevo resistentes a produtos químicos. As placas de impressão planas preparadas a partir do material de desenho permitem uma elevada tiragem de impressão e são resistentes face e produtos químicos de processamento.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

07/06/2004

RPI 1748

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

11/18/2003

RPI 1715

Publicação do pedido de patente

#3.1

04/11/2000

RPI 1527

Patent monitoring

Track this patent in real time.

Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.