Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
10/22/2002
RPI 1659
Application data
Number
PI9501830Type
Filing
Publication
The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 10/22/2002. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Agfa-Gevaert AG
DE
H. A. (pessoa física)
DE
Inventors
G. B. (pessoa física)
DE
M. E. (pessoa física)
DE
IPC Classification
Priority claims
DE
P 44 14 896.8 · 04/28/1994
Abstract
Patente de Invenção: "MISTURA SENSÍVEL À RADIAÇÃO A QUE TRABALHA POSITIVAMENTE E MATERIAL DE DESENHO COM UM VEÍCULO E UMA CAMADA SENSÍVEL À RADIAÇÃO" .A invenção refere-se a uma mistura sensível à radiação que trabalha positivamento com a) um adesivo polímero com grupos lábeis aos ácidos e b) um composto formador de um ácido forte na exposição à luz, na qual o adesivo apresenta simultaneamente unidades das formulas I,II,III R^ 1^-OH (I), R^ 1^-O-CO~ 2~R^ 2^ (II), R^ 1^-O-CH~ 2~-CHR^ 3^-OH (III). A mistura é aplicada p[ara o revestimento de material de desenho sensível à radiação, que pode ser aplicado na preparação de placas de impressão e foterresits.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.2
10/22/2002
RPI 1659
#6.1
11/27/2001
RPI 1612
#25.1
Transferido de: Hoechst Aktiengesellschaft
01/12/1999
RPI 1462
#3.1
03/05/1996
RPI 1318
#2.1
06/06/1995
RPI 1279
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