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Official data from INPI

MISTURA SENSÍVEL À LUZ E MATERIAL DE CÓPIA SENSÍVEL À LUZ

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI9204371

Type

Invention Patent

Filing

11/11/1992

Publication

05/18/1993

Progress at the INPI

  1. Filing11/11/92
  2. Publication05/18/93
  3. Abandoned09/14/93
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 03/09/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Agfa-Gevaert AG

DE

H. A. (pessoa física)

DE

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Inventors

A. E. (pessoa física)

DE

G. B. (pessoa física)

DE

K. B. (pessoa física)

DE

S. S. (pessoa física)

DE

W. Z. (pessoa física)

DE

Technical data

IPC Classification

Priority claims

DE

P 41 37 325.1 · 11/13/1991

Abstract

A invenção refere-se a uma mistura sensível a luz, que contém um aglutinante polimérico hidroinsolúvel, solúvel ou pelo menos intumescível em soluções aquosas-alcalinas e um éster de ácido o-naftoquinondiazidossulfônico, sendo que o éster de ácido 1,2-naftoquinon-2-diazidsulfônico corresponde à fórmula geral I (Vide fórmula) na qual R significa hidrogênio, um radical alquila ou arila, R~ 1~ significa hidrogênio, um radical 1,2-naftoquinon-2-diazid-4-, 1,2-naftoquinon-2-diazid-5- ou 7-metóxi-1,2-naftoquinon-2-diazid-4-sulfonila, e o número dos radiais naftoquinondiazidossulfonila definidos como R~ 1~ iguais ou diferentes perfaz, na molécula, 1 até 5. O grau de esterifiração estequiométrico é, de preferência, 40-95%. A invenção refere-se também a um material de cópia à luz a partir de um suporte de camada e uma camada de sensível à luz a partir da mistura descrita. O material de cópia preparado sob emprego a mistura sensível à luz possui uma elevada sensibilidade à luz, uma muito boa resistência ao revelador com relação a reveladores alcalinos e pode ser revelado, sem problemas com soluções aquosas levemente alcalinas.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2602 de 17-11-2020 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

03/09/2021

RPI 2618

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 9ª até a 28ª anuidade.

11/17/2020

RPI 2602

8.9

Anulada a publicação código 8.12 na RPI nº 2274 de 05/08/2014 por ter sido indevida.

11/10/2020

RPI 2601

8.12

Referente ao não recolhimento das 17ª, 18ª, 19ª e 20ª anuidades.

08/05/2014

RPI 2274

11.14

Referente a publicação 11.1 efetuada na RPI 1521 de 29/02/2000

04/11/2000

RPI 1527

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

02/29/2000

RPI 1521

Republicação - titular

#25.11

Transferido de: Hoechst Aktiengesellschaft @Referência RPI nº 1495 de 31.08.1999-Cód. 25.1-item despacho

10/05/1999

RPI 1500

Transferência deferida

#25.1

Transferido de: Hoechst Aktiengesellschalt.

08/31/1999

RPI 1495

Solicitação de exame técnico

#4.1

09/14/1993

RPI 1189

Publicação do pedido de patente

#3.1

05/18/1993

RPI 1172

Pedido de patente depositado

#2.1

12/29/1992

RPI 1152

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