Carta-patente expirada
#21.1
Patente extinta em 07/08/2012
06/25/2013
RPI 2216
Application data
Number
PI9203080Type
Filing
Publication
The letters patent expired on 06/25/2013: the term of protection has ended. The technology is in the public domain and may be freely used in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 06/25/2013. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
M. C. (pessoa física)
JP
M. C. (pessoa física)
JP
Inventors
A. K. (pessoa física)
JP
I. S. (pessoa física)
JP
K. O. (pessoa física)
JP
K. K. (pessoa física)
JP
T. U. (pessoa física)
JP
T. U. (pessoa física)
JP
IPC Classification
Priority claims
JP
18962/1992 · 02/04/1992
JP
199573/1991 · 08/08/1991
Abstract
É descrito um processo para produção de uma nitrila, que compreende submeter um alcano e amônia em estado gasoso à oxidação catalítica na presença de um catalisador que satisfaz às seguintes condições 1 e 2: 1) O catalisador é representado pela fórmula empírica Mo~ a~ V~ b~ Te~ c~ X~ x~ O~ n~ (1) na qual X é pelo menos um elemento selecionado dentre o grupo constituído por Nb, Ta, W, Ti, Al, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ni, Pd, Pt, Sb, Bi, B e Ce, quando a = 1, b = 0,01 a 1,0, c = 0,01, a 1,0, x = 0,01 a 1,0 e n é um número tal que a valência metálica total é satisfeita, e 2) O catalisador apresenta picos de difração de raios X nos seguintes ângulos de difração 2Ú de seu padrão de difração de raios X: Ângulo de Difração 2 (°) 22,1 +/- 0,3, 28,2 +/- 0,3, 36,2 +/- 0,3, 45,2 +/- 0,3, 50,0 +/- 0,3.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#21.1
Patente extinta em 07/08/2012
06/25/2013
RPI 2216
#16.1
05/30/2000
RPI 1534
#9.1
09/08/1999
RPI 1496
#6.1
05/04/1999
RPI 1478
08/20/1996
RPI 1342
#4.1
10/11/1994
RPI 1245
#3.1
03/30/1993
RPI 1165
#2.1
09/15/1992
RPI 1137
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