Official data from INPI

APERFEIÇOAMENTO EM UM APARELHO DE DEPOSIÇÃO DE DESCARGA LUMINOSA.

ArquivadaInvention Patent

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Application data

Number

PI8304903

Type

Invention Patent

Filing

09/09/1983

Publication

05/22/1984

View on INPI

Progress at the INPI

Filing09/09/83
Publication05/22/84
Abandoned05/06/86
Allowance
Grant
In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 05/31/1988. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Energy Conversion Devices, Inc.

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Inventors

E. B. (pessoa física)

Technical data

IPC Classification

No IPC classification.

Priority claims

418.859 · 09/16/1982

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

05/31/1988

RPI 919

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

06/30/1987

RPI 871

Solicitação de exame técnico

#4.1

05/06/1986

RPI 811

Publicação do pedido de patente

#3.1

05/22/1984

RPI 709

Pedido de patente depositado

#2.1

11/08/1983

RPI 681

From the same holder

DISPOSITIVO DE COMUTAÇÃO ELETRÔNICA, MÉTODO DE COMUTAÇÃO ELETRÔNICA, E, CIRCUITO CATODO DE CÉLULA DE COMBUSTÍVEL, E, CÉLULA DE COMBUSTÍVEL CÉLULA DE COMBUSTÍVEL, E, SISTEMA DE ABASTECIMENTO DE ENERGIA.MÉTODO PARA INICIALIZAR UM DISPOSITIVO DE ARMAZENAMENTO DE DADOS PROCESSO CRIPTOGRÁFICO DE ARMAZENAR E RECUPERAR INFORMAÇÃO EM UM ELEMENTO DE MEMÓRIA DE MUDANÇA DE FASE, PROCESSO DE CONTROLAR UM ELEMENTO DE INTERCONEXÃO PARA MUDAR CONECTIVIDADE EM UMA REDE NEURAL, E APARELHO DE CONTROLE PARA CONTROLAR O NÍVEL DE CONECTIVIDADE ENTRE NÓS EM UMA REDE NODAL DE UM SISTEMA DE REDE NEURAL.ELEMENTO DE MEMÓRIA APARELHO DE MODIFICAÇÃO SUPERFICIAL OU DEPOSIÇÃO DE PELÍCULA FINA POR JATO DE PLASMA, E, MÉTODO DE ATAQUE QUÍMICO OU DEPOSIÇÃO DE PELÍCULA FINA POR JATO DE PLASMA APARELHO PARA DEPOSIÇÃO DE MATERIAL DE FILME FINO SOBRE UM SUBSTRATO, PROCESSO PARA FABRICAR UMA PILHA DE INTERFERÔMETRO DEPOSITADA SOBRE UM SUBSTRATO E DISPOSITIVO DE MICROONDAS AMPLIADO

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