Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 1929 de 26/12/2007.
12/13/2011
RPI 2136
Application data
Number
PI0017133Type
Filing
Publication
PCT
US2000004402 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 12/13/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Energy Conversion Devices, INC.
US
Inventors
J. D. (pessoa física)
US
M. I. (pessoa física)
US
S. J. (pessoa física)
US
IPC Classification
Abstract
"APARELHO DE MODIFICAÇÃO SUPERFICIAL OU DEPOSIÇÃO DE PELÍCULA FINA POR JATO DE PLASMA, E, MÉTODO DE ATAQUE QUÍMICO OU DEPOSIÇÃO DE PELÍCULA FINA POR JATO DE PLASMA". Um novo método de modificação superficial ou deposição de película fina de CVD intensificado por plasma, de alta velocidade e plasma de alta qualidade, e aparelho. A invenção emprega energia tanto de microondas (5) quanto de feixes eletrônicos (6) para a criação de um plasma de espécies excitadas que modificam a superfície de substratos (2) ou são depositadas sobre os substratos para formar a película fina desejada. A invenção também emprega um sistema de jato de gás (3) para introduzir as espécies de reação no plasma. Este sistema de jato de gás (3) leva em conta a velocidade de deposição mais elevada do que os processos de PECVD convencionais, enquanto mantém a alta qualidade desejada dos materiais depositados.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 1929 de 26/12/2007.
12/13/2011
RPI 2136
#8.6
Referente a 5ª, 6ª, 7ª e 8ª anuidades.
12/26/2007
RPI 1929
#1.3
11/05/2002
RPI 1661
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