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APARELHO DE MODIFICAÇÃO SUPERFICIAL OU DEPOSIÇÃO DE PELÍCULA FINA POR JATO DE PLASMA, E, MÉTODO DE ATAQUE QUÍMICO OU DEPOSIÇÃO DE PELÍCULA FINA POR JATO DE PLASMA

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · US2000004402

Application data

Number

PI0017133

Type

Invention Patent

Filing

02/22/2000

Publication

11/05/2002

PCT

US2000004402

Progress at the INPI

  1. Filing02/22/00
  2. Publication11/05/02
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 12/13/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Energy Conversion Devices, INC.

US

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Inventors

J. D. (pessoa física)

US

M. I. (pessoa física)

US

S. J. (pessoa física)

US

Technical data

IPC Classification

Abstract

"APARELHO DE MODIFICAÇÃO SUPERFICIAL OU DEPOSIÇÃO DE PELÍCULA FINA POR JATO DE PLASMA, E, MÉTODO DE ATAQUE QUÍMICO OU DEPOSIÇÃO DE PELÍCULA FINA POR JATO DE PLASMA". Um novo método de modificação superficial ou deposição de película fina de CVD intensificado por plasma, de alta velocidade e plasma de alta qualidade, e aparelho. A invenção emprega energia tanto de microondas (5) quanto de feixes eletrônicos (6) para a criação de um plasma de espécies excitadas que modificam a superfície de substratos (2) ou são depositadas sobre os substratos para formar a película fina desejada. A invenção também emprega um sistema de jato de gás (3) para introduzir as espécies de reação no plasma. Este sistema de jato de gás (3) leva em conta a velocidade de deposição mais elevada do que os processos de PECVD convencionais, enquanto mantém a alta qualidade desejada dos materiais depositados.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 1929 de 26/12/2007.

12/13/2011

RPI 2136

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente a 5ª, 6ª, 7ª e 8ª anuidades.

12/26/2007

RPI 1929

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

11/05/2002

RPI 1661

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