Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
11/26/2019
RPI 2551
Application data
Number
PI1102975Type
Filing
Publication
The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 11/26/2019. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Semikron Elektronik Gmbh & Co. Kg
DE
Inventors
B. K. (pessoa física)
DE
IPC Classification
Priority claims
DE
10 2010 024 257.8 · 06/18/2010
Abstract
COMPONENTE SEMICONDUTOR DE POTÊNCIA COM PERFIL DE DOPAGEM DE DOIS NÍVEIS. O presente pedido refere-se a um componente semicondutor de potência tendo uma junção pn, tendo um corpo básico com uma primeira condutividade básica, uma região do tipo poço com uma segunda condutividade que é disposta horizontalmente no centro do corpo básico, tem um primeiro perfil de dopagem de dois níveis e tem uma primeira profundidade de penetração a partir da primeira superfície principal para o corpo básico. Além disso, este componente semicondutor de potência tem uma estrutura de borda que é disposta entre a região do tipo poço e a borda do componente semicondutor de potência e que compreende uma pluralidade de anéis de campo com um perfil de dopagem de nível único, uma segunda condutividade e uma segunda profundidade de penetração, sendo que a primeira profundidade de penetração não é mais do que 50 de 100 da segunda profundidade de penetração
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.2
11/26/2019
RPI 2551
#6.21
08/13/2019
RPI 2536
#6.6.1
12/26/2018
RPI 2503
#3.1
03/31/2015
RPI 2308
#2.1
06/12/2012
RPI 2162
#2.10
Número de Protocolo 20110064501 em 20/06/2011 11:07(RJ).
01/03/2012
RPI 2139
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