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Official data from INPI

COMPONENTE SEMICONDUTOR DE POTÊNCIA COM PERFIL DE DOPAGEM DE DOIS NÍVEIS

ArquivadaInvention Patent

Application data

Number

PI1102975

Type

Invention Patent

Filing

06/20/2011

Publication

03/31/2015

Progress at the INPI

  1. Filing06/20/11
  2. Publication03/31/15
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 11/26/2019. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Semikron Elektronik Gmbh & Co. Kg

DE

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Inventors

B. K. (pessoa física)

DE

Technical data

IPC Classification

Priority claims

DE

10 2010 024 257.8 · 06/18/2010

Abstract

COMPONENTE SEMICONDUTOR DE POTÊNCIA COM PERFIL DE DOPAGEM DE DOIS NÍVEIS. O presente pedido refere-se a um componente semicondutor de potência tendo uma junção pn, tendo um corpo básico com uma primeira condutividade básica, uma região do tipo poço com uma segunda condutividade que é disposta horizontalmente no centro do corpo básico, tem um primeiro perfil de dopagem de dois níveis e tem uma primeira profundidade de penetração a partir da primeira superfície principal para o corpo básico. Além disso, este componente semicondutor de potência tem uma estrutura de borda que é disposta entre a região do tipo poço e a borda do componente semicondutor de potência e que compreende uma pluralidade de anéis de campo com um perfil de dopagem de nível único, uma segunda condutividade e uma segunda profundidade de penetração, sendo que a primeira profundidade de penetração não é mais do que 50 de 100 da segunda profundidade de penetração

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

11/26/2019

RPI 2551

Exigência preliminar

#6.21

08/13/2019

RPI 2536

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

12/26/2018

RPI 2503

Publicação do pedido de patente

#3.1

03/31/2015

RPI 2308

Pedido de patente depositado

#2.1

06/12/2012

RPI 2162

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo 20110064501 em 20/06/2011 11:07(RJ).

01/03/2012

RPI 2139

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