CAMADA DE COBRE DEPOSITADA NÃO ELETROLITICAMENTE, SEU MÉTODO DE DEPOSIÇÃO SOBRE UM SUBSTRATO SEMICONDUTOR, E COMPONENTE SEMICONDUTOR

IPC Classification

Priority claims

Abstract

RESUMOPatente de Invenção: "MÉTODO PARA DEPOSIÇÃO NÃO ELETROLÍTICA DE UMA CAMADA DE COBRE, CAMADA DE COBRE DEPOSITADA NÃO ELETROLITICAMENTE E COMPONENTE SEMICONDUTOR QUE COM-PREENDE A REFERIDA CAMADA DE COBRE DEPOSITADA NÃO ELE-TROLITICAMENTE".A invenção refere-se a um método para a deposição não eletrolí-tica de uma camada de cobre sobre um substrato semicondutor, a uma ca-mada de cobre depositada não eletroliticamente, bem como a um compo-nente semicondutor, que compreende a referida camada de cobre depositada não eletroliticamente.