Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
12/23/2014
RPI 2294
Application data
Number
PI1101144Type
Filing
Publication
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 03/17/2011 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 12/23/2014. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
F. K. (pessoa física)
SP, BR
Inventors
F. K. (pessoa física)
BR
IPC Classification
Abstract
MESA TÉRMICA CONTÍNUA PARA ESTAMPAGEM DE SUBSTRATOS TÊXTEIS E CORRELATOS. Trata mais particularmente de uma mesa térmica contínua (1), notadamente desenvolvida para utilização em estamparia de substratos têxteis e correlatos, a qual é constituída por uma estrutura formal (2) confeccionada em material de alta resistência, dotada de um conjunto de dispositivos que permite maior proteção das suas partes componentes, maximizando a sua vida útil e aumentando substancialmente a produção de estampas em um mesmo espaço físico.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.1.1
12/23/2014
RPI 2294
#11.1
04/22/2014
RPI 2259
#3.1
05/21/2013
RPI 2211
#2.1
04/10/2012
RPI 2153
#2.10
Número de Protocolo 18110009497 em 17/03/2011 04:12(SP).
12/13/2011
RPI 2136
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