111
Recorrente: O depositante. @Despacho: Recurso conhecido e negado provimento. Mantido o indeferimento do pedido. [111]
04/27/2021
RPI 2625
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Official data from INPI
VÁLVULA DE ENCHIMENTO ISOBAROMÉTRICA SEM PISTÃO
Em AnáliseInvention Patent
Application data
Number
PI0802910Type
Invention Patent
Filing
05/30/2008
Publication
03/02/2010
Progress at the INPI
- Filing05/30/08
- Publication03/02/10
- Examination
- Refused04/27/21
- Grant
- In force
The application was refused on 04/27/2021 and the appeal did not change the decision. The invention was never patented and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 04/27/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
A. S. (pessoa física)
RS, BR
Inventors
A. S. (pessoa física)
BR
Technical data
IPC Classification
Abstract
Válvula de enchimento isobarométrica sem pistão. Eliminando a necessidade do pistão elevador, visto ele executa as duas funções, garantindo assim um travamento traseiro frontal entre a válvula e a garrafa. As principais vantagens do sistema proposto são: Eliminação do consumo de ar comprimido, baixando custo de energia e probalidade de contaminação da sala de envase. Confiabilidade do sistema em função da utilização de materias nobres e de alta resisténcia, reduzindo custos de manutenção. Redução dos custos de fabricação.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
120
Recorrente: O depositante.@ Despacho: Tome conhecimento do parecer técnico e se manifeste no prazo de 60 (sessenta) dias. [120]
02/02/2021
RPI 2613
Petição de recurso
#12.2
12/24/2019
RPI 2555
Indeferimento
#9.2
11/05/2019
RPI 2548
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
04/09/2019
RPI 2518
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
05/22/2018
RPI 2472
Republicação - classificação IPC
#15.11
A Classificação Anterior era: B67C 3/28
04/03/2018
RPI 2465
Publicação do pedido de patente
#3.1
03/02/2010
RPI 2043
Pedido de patente depositado
#2.1
01/27/2009
RPI 1986
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