Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2214 de 11/06/2013.
02/18/2014
RPI 2250
Application data
Number
PI0620801Type
Filing
Publication
PCT
US2006049389 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 02/18/2014. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Silica Tech, Llc
US
Inventors
D. W. (pessoa física)
US
M. G. (pessoa física)
RU
M. A. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
11/646362 · 12/28/2006
US
60/754281 · 12/29/2005
Abstract
MAÇARICO DE PLASMA E APARELHO DE DEPOSIÇÃO DE PLASMA PARA FABRICAR SÍLICA SINTETICA É descrita um maçarico de plasma melhorado.. para fabricar sílica sintética que inclui o uso de gás de proteção de nitrogênio proveniente a tubulação de quartzo externa para fornecer isolamento do ambiente ativo. Além do mais, o presente maçarico de plasma de indução inclui um disco anular para proteção ambiental mais compacta, mas completa (360 graus de cobertura). Ela também inclui, deslocar e trocar as posições dos bicos de injeção de produtos químidos para permitir melhor deposição em ambas as direções, quando operada em um modo horizontal. Adicionalmente, o presente maçarico de plasma de indução mantém fluxo laminar para os produtos químicos injetados, e o tubo de quartzo intermediário é provido com uma seção côncava para aumentar a entalpia média do jato de plasma, melhorando assim a eficiência do maçarico de plasma. Além do mais, ela pode utilizar mais entradas de gás de plasma. Ela também inclui bicos de injeção de produtos químicos com uma inclinação angular para baixo.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2214 de 11/06/2013.
02/18/2014
RPI 2250
#8.6
referente a 5ª e 6ª anuidade
06/11/2013
RPI 2214
#1.3
06/05/2012
RPI 2161
Solicita-se a regularização da procuração, uma vez que baseado no artigo 216 § 1° da LPI, o documento de procuração deve ser apresentado no original, traslado ou fotocópia autenticada.
10/25/2011
RPI 2129
#1.1
08/16/2011
RPI 2119
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