Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2161 de 05/06/2012.
10/23/2012
RPI 2181
Application data
Number
PI0609255Type
Filing
Publication
PCT
JP2006304199 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
NIPPON STEEL MATERIALS CO., LTD.
JP
Inventors
J. K. (pessoa física)
JP
K. O. (pessoa física)
JP
M. O. (pessoa física)
JP
N. I. (pessoa física)
JP
IPC Classification
Priority claims
JP
2005-062556 · 03/07/2005
JP
2006-034342 · 02/10/2006
Abstract
MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DE SILÍCIO DE ALTA PUREZA. A presente invenção refere-se a um método para a produção de uma grande quantidade de silício de alta pureza econômico útil em uma bateria solar. É descrito um método para a produção do silício de alta pureza pela migração de impurezas no silício fundido para a escória incluindo a etapa de alimentar um agente oxidante para o silício fundido junto com a escória, em que o agente oxidante é um material compreendendo como um componente primário pelo menos um dos seguintes materiais: carbonato de metal alcalino, hidrato de carbonato de metal alcalino, hidróxido de metal alcalino, carbonato de metal alcalino-terroso, hidrato de carbonato de metal alcalino-terroso ou hidróxido de metal alcalino-terroso.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2161 de 05/06/2012.
10/23/2012
RPI 2181
#8.6
Referente às 4ª, 5ª e 6ª anuidades.
06/05/2012
RPI 2161
#1.3
03/09/2010
RPI 2044
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