Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2161 de 05/06/2012.
10/23/2012
RPI 2181
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Official data from INPI
MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DE SILÍCIO DE ALTA PUREZA
Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · JP2006304201
Application data
Number
PI0608572Type
Invention Patent
Filing
02/28/2006
Publication
01/12/2010
PCT
JP2006304201 Progress at the INPI
- Filing02/28/06
- Publication01/12/10
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 10/23/2012. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
NIPPON STEEL MATERIALS CO., LTD.
JP
Inventors
J. K. (pessoa física)
JP
K. O. (pessoa física)
JP
M. O. (pessoa física)
JP
N. I. (pessoa física)
JP
Technical data
IPC Classification
Priority claims
JP
2005-062560 · 03/07/2005
JP
2006-034362 · 02/10/2006
Abstract
MÉTODO PARA A PRODUÇÃO DE SILÍCIO DE ALTA PUREZA. A presente invenção refere-se a um método para a produção de uma grande quantidade de silício de alta pureza e baixo custo útil em uma bateria solar. O método inclui as etapas de preparar o silício fundido, preparar uma escória, colocar o silício fundido e a escória em contato um com o outro e expor pelo menos a escória à pressão de vácuo.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente às 4ª, 5ª e 6ª anuidades.
06/05/2012
RPI 2161
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
01/12/2010
RPI 2036
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